substrato dello zaffiro

• Le lame di zaffiro, di alta durezza, riducono efficacemente i danni ai tessuti per applicazioni mediche
• GaN su zaffiro GaN Epitaxy Template su Zaffiro 2 pollici 4 pollici 6 pollici 8 pollici
• Sapphire Al2O3 Ingots 80KG 200KG 400KG KY Metodo di crescita per la lavorazione dei componenti di zaffiro
• Il cono laser di zaffiro di piccole dimensioni viene utilizzato nel taglio laser, nei laser medici e nella ricerca scientifica

Zaffiro Windows ottico

• Non rivestito / rivestito SapphireTech Precision Windows High Transparency Precision Engineering
• Componenti ottici di zaffiro JGSI JGS2 personalizzabili Forte stabilità termica
• JGS1 JGS2 K9 BF33 BK7 finestre di zaffiro al quarzo ad alta trasmissione
• Obiettivo per finestre Sapphire personalizzabile asimmetrico per telecamere industriali e sensori

Wafer del carburo di silicio

• 3C-N tipo Wafer di carburo di silicio 2 pollici 4 pollici 6 pollici O 5 * 5 10 * 10 mm Dimensione di produzione di grado di ricerca
• Wafer in carburo di silicio 3C-N Tipo 5*5 10*10mm Pollice Diametro Spessore 350 μm±25 μm
• Wafer 3C-N SiC 4 pollici Carburo di silicio Prime Grade Dummy Grade Alta mobilità elettronica RF LED
• 4H SiC Spessore della goccia di semi 600±50μm <1120> Personalizzazione Crescita del carburo di silicio

Sapphire Tube

• OD5.1 ID2.0 L108.00±0.25mm Tubo di zaffiro Alta temperatura e resistenza all'usura Personalizzabile
• Cristallo lucidato su misura tubi sintetici industriali Al2O3 dello zaffiro
• Tubo di zaffiro personalizzabile Tubo di zaffiro trasparente Durezza di Mohs 9.0 Alta resistenza all'usura
• personalizzabile Sapphire Regolare Rod Applicazioni industriali di uso speciale Alta durezza

Substrato a semiconduttore

• Spessore personalizzato Al Substrato di alluminio a singolo cristallo Purezza 99/99% 5×5×1/0.5 mm 10×10×1/0.5 20x20x0.5/1 mm
• Wafer di silicio fuso JGS1 JGS2 BF33 spessore 8 pollici 12 pollici 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
• larghezza di banda del substrato N-InP 02:2.5G wavelength 1270nm epi wafer per diodo laser FP
• 2 pollici 4 pollici 6 pollici 8 pollici 12 pollici Si wafer Wafer di silicio lucidante non dopato P tipo N tipo semiconduttore

Gem Stone sintetico

• Blu cielo Sapphire artificiale a fila Cristallo Gemma Blu chiaro per gioielli
• Sapphire verde: materia prima sintetica per gioielli durevoli con durezza Mohs di 9
• Coltivazione artificiale dopato colore zaffiro AL2O3 metodo personalizzato CZ viola
• Ce:LuAG Scintillazione Cristallo Cerio dopato Lutezio Aluminio Alta densità Tempo di decadimento veloce PET

attrezzatura di laboratorio scientifica

• SiC Forno di crescita di cristalli di riscaldamento a resistenza a cristallo singolo per la fabbricazione di wafer SiC da 6 pollici a 8 pollici a 12 pollici
• Attrezzature laser microjet per taglio di wafer ad alta precisione e lavorazione di lenti a carburo di silicio AR
• Attrezzature laser microjet Laser ad alta energia e tecnologia a getto liquido micron
• Tecnologia delle apparecchiature laser microfluidiche utilizzate per la lavorazione dei materiali duri e fragili del carburo di silicio Cermet