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Ultime soluzioni aziendali su Studio di caso: l'innovazione di ZMSH con il nuovo 4H/6H-P 3C-N SiC Substrato

2024-09-19

Studio di caso: l'innovazione di ZMSH con il nuovo 4H/6H-P 3C-N SiC Substrato

Scopo del progetto ZMSH è da tempo leader nella tecnologia dei wafer e dei substrati a carburo di silicio (SiC), fornendo substrati cristallini 6H-SiC e 4H-SiC per la produzione di wafer ad alta frequenza, alta potenza, alta temperatura,e dispositivi elettronici resistenti alle radiazioniPoiché la ...

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