Piano C (0001), Piano A (11-20), Piano R (1-102) o Personalizzato
Forma del substrato:
Rotondo, Quadrato, Rettangolare o Personalizzato
Processo di metallizzazione:
Sputtering, evaporazione o altri processi qualificati
Strato di adesione:
Ti, Cr o altri materiali specificati
Strato barriera:
Ni, Pt o altri materiali, a seconda del design
Capacità di alimentazione:
Per caso
Evidenziare:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
Descrizione di prodotto
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto