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Dettagli dei prodotti

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substrato dello zaffiro
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Wafer di zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi a LED e GaN

Wafer di zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi a LED e GaN

Marchio: ZMSH
MOQ: 2
prezzo: by case
Dettagli dell' imballaggio: Cartoni personalizzati
Condizioni di pagamento: T/T
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Diametro della wafer:
12 pollici (300 mm)
materiale:
Sapphire monocristallino (Al2O3)
Orientamento del cristallo:
Piano C (0001), Piano A (11-20), Piano R (1-102)
Spessore:
430–500 μm
Finitura superficiale:
Lucidato su un lato (SSP) / Lucidato su due lati (DSP)
Rugosità superficiale (RA):
≤0,5 nm (lucido)
Capacità di alimentazione:
Per caso
Descrizione di prodotto

Visualizzazione del prodotto

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono substrati di zaffiro monocristallino di diametro ultra-grande fabbricati per applicazioni avanzate di semiconduttori e optoelettronici.Rispetto ai tradizionali wafer di zaffiro da 2 ′′ 6 ", i wafer di zaffiro da 12 pollici migliorano significativamente l'efficienza di produzione, l'utilizzo dei materiali e l'uniformità dei dispositivi, rendendoli una scelta ideale per la prossima generazione di LED, elettronica di potenza,e tecnologie avanzate di imballaggio.

 

I nostri wafer di zaffiro da 12 pollici sono prodotti da singoli cristalli Al2O3 di alta purezza coltivati con metodi avanzati di crescita dei cristalli, seguiti da precisione di taglio, lapping, lucidatura,e rigorosa ispezione della qualitàI wafer presentano un'eccellente piattezza superficiale, una bassa densità di difetti e una elevata stabilità ottica e meccanica, soddisfacendo i severi requisiti della fabbricazione di dispositivi di grande area.

 

Wafer di zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi a LED e GaN 0


Wafer di zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi a LED e GaN 1Caratteristiche del materiale

Lo zaffiro (ossido di alluminio monocristallino, Al2O3) è ben noto per le sue eccezionali proprietà fisiche e chimiche.I wafer di zaffiro da 12 pollici ereditano tutti i vantaggi del materiale di zaffiro fornendo una superficie utile molto più ampia.

Tra le caratteristiche principali del materiale figurano:

  • Altissima durezza e resistenza all'usura

  • Eccellente stabilità termica e elevato punto di fusione

  • Superiore resistenza chimica agli acidi e alle alcali

  • Alta trasparenza ottica dalle lunghezze d'onda UV alle IR

  • Ottime proprietà di isolamento elettrico

Queste caratteristiche rendono i wafer di zaffiro da 12 pollici adatti a ambienti di lavorazione difficili e processi di produzione di semiconduttori ad alta temperatura.


Processo di produzione

La produzione di wafer di zaffiro da 12 pollici richiede una crescita cristallina avanzata e tecnologie di elaborazione ultra-precise.

  1. Crescita a cristallo singolo
    I cristalli di zaffiro di alta purezza sono coltivati utilizzando metodi avanzati come il KY o altre tecnologie di crescita dei cristalli di grande diametro, garantendo un'orientamento uniforme dei cristalli e un basso stress interno.

  2. Modellazione e taglio dei cristalli
    Il lingotto di zaffiro viene modellato con precisione e tagliato in wafer da 12 pollici con attrezzature di taglio ad alta precisione per ridurre al minimo i danni sotterranei.

  3. Lappatura e lucidatura
    Sono applicati processi di lapping e lucidatura meccanica chimica (CMP) in più passaggi per ottenere un'eccellente rugosità superficiale, piattezza e uniformità dello spessore.

  4. Pulizia e ispezione
    Ogni wafer di zaffiro da 12 pollici subisce una pulizia approfondita e una rigorosa ispezione, inclusa la qualità della superficie, il TTV, l'arco, la curvatura e l'analisi dei difetti.

 


Applicazioni

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono ampiamente utilizzati in tecnologie avanzate ed emergenti, tra cui:

  • Substrati a LED ad alta potenza e alta luminosità

  • Dispositivi di alimentazione basati su GaN e dispositivi RF

  • Altri supporti per apparecchiature per semiconduttori

  • Fenestre ottiche e componenti ottici a grande area

  • Imballaggi avanzati di semiconduttori e vettori speciali di processo

Il grande diametro consente un maggiore throughput e una migliore efficienza dei costi nella produzione di massa.

 


I vantaggi delle cialde di zaffiro da 12 pollici

  • Superficie utilizzabile più ampia per una maggiore potenza del dispositivo per wafer

  • Migliorare la coerenza e l'uniformità dei processi

  • Riduzione dei costi per dispositivo nella produzione a grandi volumi

  • Eccellente resistenza meccanica per la movimentazione di grandi dimensioni

  • Specifiche personalizzabili per applicazioni diverse

 Wafer di zaffiro da 12 pollici per la produzione di dispositivi a LED e GaN 2


Opzioni di personalizzazione

Offriamo personalizzazioni flessibili per wafer di zaffiro da 12 pollici, tra cui:

  • Orientazione dei cristalli (piano C, piano A, piano R, ecc.)

  • Tolleranza di spessore e diametro

  • di larghezza uguale o superiore a 50 mm

  • Profilo del bordo e progettazione della camma

  • Requisiti in materia di rugosità e piattezza della superficie

Parametro Specificità Altre note
Diametro della wafer 12 pollici (300 mm) Wafer standard di grande diametro
Materiale Sapphire monocristallino (Al2O3) Alta purezza, di grado elettronico/ottico
Orientazione cristallina Piano C (0001), piano A (11-20), piano R (1-102) Orientazioni facoltative disponibili
Spessore 430 ‰ 500 μm Spessore su richiesta
Tolleranza dello spessore ± 10 μm Tolleranza limitata per dispositivi avanzati
Variazione totale dello spessore (TTV) ≤ 10 μm Garantisce un'elaborazione uniforme su tutti i wafer
Inchinati. ≤ 50 μm Misurato su tutto il wafer
Warp. ≤ 50 μm Misurato su tutto il wafer
Finitura superficiale Polito su un solo lato (SSP) / Polito su due lati (DSP) Superficie di alta qualità ottica
Roverezza superficiale (Ra) ≤ 0,5 nm (polito) Lussureggianza a livello atomico per la crescita epitaxiale
Profil di bordo Campione / bordo arrotondato Per evitare la frantumazione durante la manipolazione
Accuratezza dell'orientamento ± 0,5° Garantisce una corretta crescita dello strato epitassiale
Densità dei difetti < 10 cm−2 Misurato con ispezione ottica
Piatto ≤ 2 μm / 100 mm Garantisce una litografia uniforme e una crescita epitassiale
Pulizia Classe 100 Classe 1000 Compatibile con la stanza pulita
Trasmissione ottica > 85% (UV-IR) Dipende dalla lunghezza d'onda e dallo spessore.

 

 

12 pollici Sapphire Wafer FAQ

Q1: Qual è lo spessore standard di un wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Lo spessore standard varia da 430 μm a 500 μm. Gli spessori personalizzati possono anche essere prodotti in base alle esigenze del cliente.

 

Q2: Quali sono gli orientamenti di cristallo disponibili per i wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Offriamo orientamenti C-piano (0001), A-piano (11-20), e R-piano (1-102).

 

D3: Qual è la variazione totale dello spessore (TTV) del wafer?
R: I nostri wafer di zaffiro da 12 pollici hanno in genere un TTV ≤10 μm, garantendo l'uniformità su tutta la superficie del wafer per la fabbricazione di dispositivi di alta qualità.

 

 

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