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Dettagli dei prodotti

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Wafer del carburo di silicio
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Wafer in carburo di silicio da 4 pollici, tipo 4H-N, spessore 350um, substrato SiC

Wafer in carburo di silicio da 4 pollici, tipo 4H-N, spessore 350um, substrato SiC

Marchio: ZMSH
Numero di modello: Wafer in SiC da 4 pollici
MOQ: 10 pari
Dettagli dell' imballaggio: Pacchetto personalizzato
Condizioni di pagamento: T/t
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Certificazione:
RoHS
Diametro:
100±0,5 mm
Spessore:
350 ±25 µm
Ruvidezza:
Ra ≤ 0,2 nm
Ordito:
≤ 30um
Tipo:
4h-n
TTV:
≤ 10 μm
Evidenziare:

4H-N type silicon carbide wafer

,

4inch SiC substrate 350um

,

silicon carbide wafer with warranty

Descrizione di prodotto

4 polliciWafer al carburo di silicio 4H-NSubstrato SiC da 350um di spessore

 

 

Introduzione dei wafer al carburo di silicio da 4 pollici:

 

   Il mercato dei wafer SiC (carburo di silicio) da 4 pollici è un segmento emergente nell'industria dei semiconduttori, guidato dalla crescente domanda di materiali ad alte prestazioni in varie applicazioni. I wafer SiC sono rinomati per l'eccellente conducibilità termica, l'elevata intensità di campo elettrico e l'eccezionale efficienza energetica. Queste caratteristiche li rendono particolarmente adatti per l'uso nell'elettronica di potenza, nelle applicazioni automobilistiche e nelle tecnologie delle energie rinnovabili. Il wafer SiC di tipo 4H-N da 4 pollici è un substrato di carburo di silicio conduttivo di alta qualità basato sulla struttura cristallina del politipo 4H. Caratterizzato da un'ampia banda proibita, un elevato campo elettrico di rottura, un'eccellente conducibilità termica e un'elevata mobilità degli elettroni, è ideale per la produzione di dispositivi di potenza ad alta tensione, alta frequenza e alta temperatura, come MOSFET, diodi Schottky, JFET e IGBT. È ampiamente utilizzato nei nuovi sistemi energetici, nei veicoli elettrici, nelle reti intelligenti, nelle comunicazioni 5G e nelle applicazioni aerospaziali.

Wafer in carburo di silicio da 4 pollici, tipo 4H-N, spessore 350um, substrato SiC 0

 

Vantaggi principali dei wafer al carburo di silicio da 4 pollici:

 

Elevata tensione di rottura – Fino a 10× quella del silicio, ideale per dispositivi ad alta tensione.

 

Bassa resistenza di accensione – L'elevata mobilità degli elettroni consente una commutazione più rapida e minori perdite.

 

Eccellente conducibilità termica – Circa 3× superiore a quella del silicio, garantendo l'affidabilità del dispositivo sotto carico elevato.

 

Funzionamento ad alta temperatura – Prestazioni stabili oltre i 600°C.

 

Qualità superiore del cristallo – Bassa densità di micropipe e dislocazioni, superficie eccellente per la crescita epitassiale.

 

Opzioni personalizzabili – Disponibile con drogaggio, spessore e finitura superficiale su misura per specifici processi di dispositivo.

 

 

Parametri dei wafer ZMSH SiC e raccomandazione del prodotto:

Carburo di silicio da 6 pollici(SiC) Wafer per occhiali AR MOS SBD come riferimento

 

Specifiche dei wafer ZMSH SiC
Proprietà 2 pollici 3 pollici 4 pollici 6 pollici 8 pollici
Diametro 50,8 ± 0,3 mm 76,2 ± 0,3 mm 100± 0,5 mm 150 ± 0,5 mm 200± 03 mm

Tipo
4H-N/HPSI/4H-SEMI,
6H-N/6H-SEMI;
4H-N/HPSI/4H-SEMI 4H-N/HPSI/4H-SEMI 4H-N/HPSI/4H-SEMI 4H-N/HPSI/4H-SEMI

Spessore
330 ± 25 um;
350±25um
o personalizzato
350 ±25 um
500±25um
o personalizzato
350 ±25 um
500±25um
o personalizzato
350 ±25 um
500±25um
o personalizzato
350 ±25 um
500±25um
o personalizzato

Rugosità
Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm

Deformazione
≤ 30um ≤ 30um ≤ 30um ≤ 30um ≤45um

TTV
≤ 10um ≤ 10 um ≤ 10 um ≤ 10 um ≤ 10 um

Graffio/Dig.
CMP/MP
MPD <1ea> <1ea> <1ea> <1ea> <1ea>

Smusso
45 ° , Spec. SEMI; Forma C
Grado Grado di produzione per MOS&SBD; Grado di ricerca; Grado fittizio, Grado wafer seme

 

 

 

Applicazioni dei wafer al carburo di silicio:

 

   Il wafer al carburo di silicio (SiC) è uno dei materiali semiconduttori di terza generazione, caratterizzato da elevata capacità di potenza, bassa perdita di energia, alta affidabilità e bassa generazione di calore. Può essere utilizzato in ambienti ad alta tensione e gravosi superiori a 1200 volt, ed è ampiamente applicato in sistemi di energia eolica, attrezzature ferroviarie e per il trasporto su larga scala, nonché in inverter solari, gruppi di continuità (UPS), reti intelligenti e altre applicazioni elettroniche ad alta potenza.

 

Veicoli elettrici (EV): Per inverter di trazione, caricabatterie di bordo e convertitori CC-CC.

 

Energia rinnovabile: Inverter per pannelli solari e turbine eoliche.

 

Sistemi industriali: Azionamenti motore e apparecchiature ad alta potenza.

Aerospaziale e difesa: sistemi di alimentazione ad alta efficienza in ambienti difficili.

 

 

 

Domande e risposte:

 

D: Qual è la differenza tra wafer Si e SiC?

 

R: I wafer di silicio (Si) e di carburo di silicio (SiC) sono entrambi utilizzati nella produzione di semiconduttori, ma hanno proprietà fisiche, elettriche e termiche molto diverse che li rendono adatti a diversi tipi di dispositivi. I wafer di silicio sono ideali per l'elettronica standard a bassa potenza come circuiti integrati e sensori.

I wafer al carburo di silicio sono utilizzati per dispositivi di potenza ad alta tensione, alta temperatura e alta efficienza, come quelli nei veicoli elettrici, negli inverter solari e nei sistemi di alimentazione industriali.

 

D: Cosa è meglio, SiC o GaN?

 

R: SiC è l'ideale per applicazioni ad alta tensione, alta potenza e alta temperatura come EV, energia rinnovabile e sistemi industriali. GaN è l'ideale per applicazioni ad alta frequenza e bassa-media tensione come caricabatterie veloci, amplificatori RF e dispositivi di comunicazione. In effetti, la tecnologia GaN-on-SiC combina i punti di forza di entrambi — la velocità di GaN + le prestazioni termiche di SiC — ed è ampiamente utilizzata nei sistemi 5G e radar.

 

D: SiC è una ceramica?

 

R: Sì, il carburo di silicio (SiC) è una ceramica — ma è anche un semiconduttore.