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Dettagli dei prodotti

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attrezzatura di laboratorio scientifica
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Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG

Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG

Marchio: ZMSH
MOQ: 1
prezzo: by case
Dettagli dell' imballaggio: custom cartons
Condizioni di pagamento: T/T
Informazione dettagliata
Place of Origin:
China
Metodo di elaborazione:
Rimozione del materiale di sputtering ionico sotto vuoto
Tipo di elaborazione:
Figura e lucidatura della superficie senza contatto
Materiali disponibili:
Quarzo, vetro microcristallino, K9, zaffiro, YAG, carburo di silicio, carburo di silicio a cristallo
Dimensione massima del pezzo:
Φ4000 mm
Assi di movimento:
3-assi / 5 assi
Stabilità di rimozione:
≥95%
Supply Ability:
By case
Evidenziare:

Polizzatore di fasci di ioni di zaffiro a SiC

,

macchine per la lucidatura a fascio ionico per semiconduttori

,

attrezzature di laboratorio scientifico con fascio ionico

Descrizione di prodotto

Macchine per lucidare ioni
Precisione a livello atomico · Processo senza contatto · Superfici ultra lisce

 


Visualizzazione del prodotto della macchina di lucidatura a fascio ionico
 

La macchina CNC per la raffigurazione/pulizia dei fasci di ioni opera sul principio diSputtering ionicoIn condizioni di vuoto, la sorgente ionica genera un raggio di plasma, che viene accelerato in un raggio di ioni che bombardano la superficie del pezzo da lavorare per la rimozione di materiale a livello atomico,con una capacità di accensione superiore a 50 W,.


Questa tecnologia offrelavorazione senza contatto, privo di stress meccanici o danni al sottosuolo, ed è ideale per l'ottica ad alta precisione in astronomia, aerospaziale, semiconduttori e ricerca scientifica.

 

Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 0    Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 1

 


Principio di funzionamentodi macchine per la lucidatura a fasci di ioni

  • Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 2Generazione di ioniIl gas inerte (ad esempio argon) viene introdotto nella camera a vuoto e ionizzato da un campo di scarica elettrica.

 

  • Accelerazione ionica e formazione del fascioGli ioni vengono accelerati a centinaia o migliaia di elettroni volt (eV) e trasformati in un punto di fascio stabile mediante l'ottica di messa a fuoco.

 

  • Rimozione del materialeIl raggio di ioni sputa fisicamente gli atomi della superficie senza reazioni chimiche.

 

  • Misurazione degli errori e pianificazione del percorsoL'interferometria è utilizzata per misurare gli errori di superficie, quindi le funzioni di rimozione sono utilizzate per calcolare i tempi di permanenza del fascio e generare percorsi di elaborazione.

 

  • Correzione a ciclo chiuso¢ I cicli di elaborazione e di misurazione sono ripetuti fino al raggiungimento degli obiettivi RMS/PV.

 

 

 


Caratteristiche dell'attrezzaturadi macchine per la lucidatura a fasci di ioni

  • Trattamento senza contattoCapacità di gestire tutte le forme di superficie

  • Tasso di rimozione stabilePrecisione di correzione delle figure sotto nanometro

  • Nessun danno sotterraneoPreserva l'integrità ottica

  • Alta consistenza¢ minima fluttuazione tra materiali di durezza variabile

  • Correzione di bassa/media frequenza¢ Nessuna generazione di errori di frequenza media-alta

  • Bassi costi di manutenzioneL'impiego continuo a lungo termine con tempi di fermo minimi

 


Capacità di elaborazione delle apparecchiaturedi macchine per la lucidatura a fasci di ioni

Superfici disponibili:

  • Componenti ottici semplici: piano, sfera, prisma

  • Componenti ottici complessi: asfera simmetrica/asimmetrica, asfera fuori asse, superficie cilindrica

  • Componenti ottici speciali: ottiche ultrafini, ottiche a lastra, ottiche emisferiche, ottiche conformi, piastre di fase, superfici a forma libera, altre forme personalizzate

Materiali disponibili:

  • Vetro ottico comune: quarzo, microcristallino, K9, ecc.

  • L'ottica a infrarossi: silicio, germanio, ecc.

  • Metalli: alluminio, acciaio inossidabile, lega di titanio, ecc.

  • Materiali cristallini: YAG, carburo di silicio monocristallino, ecc.

  • Altri materiali duri/fragili: carburo di silicio, ecc.

Qualità / precisione della superficie:

  • PV < 10 nm

  • RMS ≤ 0,5 nm

 


Vantaggi del prodottodi macchine per la lucidatura a fasci di ioni

  • Precisione di rimozione a livello atomicoPermette superfici ultra lisce per i sistemi ottici più esigenti

  • Compatibilità di forma versatileDall'ottica piatta alle forme libere complesse

  • Ampia adattabilità dei materialiDa cristalli di precisione a ceramiche dure e metalli

  • Capacità di apertura elevataL'ottica dei processi fino a Φ4000 mm

  • Funzionamento stabile esteso- Funziona da 3 a 5 settimane senza manutenzione.

 


Modelli tipici di macchine di lucidatura a fascio ionico

  • IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

  • Assi di movimento: 3-asse / 5-asse

  • Dimensione massima del pezzo: fino a Φ4000 mm

 

Articolo Specificità
Metodo di trattamento Rimozione del materiale da sputaio ionico sotto vuoto
Tipo di trattamento Fabbricazione e lucidatura di superfici senza contatto
Superfici disponibili Piano, sfera, prisma, asfera, asfera fuori asse, superficie cilindrica, superficie a forma libera
Materiali disponibili Quarzo, vetro microcristallino, K9, zaffiro, YAG, carburo di silicio, carburo di silicio monocristallino, silicio, germanio, alluminio, acciaio inossidabile, lega di titanio, ecc.
Dimensione massima del pezzo Φ4000 mm
Assi di movimento 3 assi / 5 assi
Stabilità di rimozione ≥ 95%
Precisione della superficie PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS tipico < 1 nm; PV < 15 nm)
Capacità di elaborazione Corregge gli errori di bassa – media frequenza senza introdurre errori di media alta frequenza
Funzionamento continuo 3-5 settimane senza manutenzione della camera a vuoto
Costi di manutenzione Basso
Modelli tipici IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

 


 

Caso 1 Standard Flat Mirror

  • Pezzo di lavoro: D630 mm Quarzo piatto

  • Risultato: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

- Sì.Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 3

Caso 2 ¢ Specchio riflettente a raggi X

 

  • Pezzo di lavoro: 150 × 30 mm piatto in silicio

  • Risultato: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; pendenza 0,13 μrad

- Sì.Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 4

Caso 3  Specchio fuori asse

  • Pezzo di lavoro: D326 mm Specchio a terra fuori asse

  • Risultato: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 5


Campo di applicazione della macchina per lucidare ioni

  • Ottica astronomica️ Specchi primari/secondari di grandi telescopi

  • Ottica spaziale¢ telerilevamento satellitare, immagini dello spazio profondo

  • Sistemi laser ad alta potenza¢ L'ottica ICF, modellazione del fascio

  • Ottica dei semiconduttoriLenti e specchi per litografia

  • Strumentazione scientifica- specchi a raggi X/neutroni, componenti standard di metrologia

 


 

 

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Su di noi

 

ZMSH è specializzata nello sviluppo, nella produzione e nella vendita di vetri ottici speciali e nuovi materiali cristallini.Offriamo componenti ottici Sapphire, coperture per lenti per cellulari, ceramiche, LT, silicone carburo SIC, quarzo, e wafer cristallini semiconduttori.,La società mira ad essere un'impresa leader nell'alta tecnologia dei materiali optoelettronici.

Macchina per la lucidatura a fascio ionico per SiC Zaffiro Quarzo YAG 8