Marchio: | ZMSH |
Numero di modello: | Wafer sic |
Condizioni di pagamento: | T/T |
SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm~150,0 mm Z Grado P Grado D Grado
Questo studio esplora le proprietà strutturali ed elettroniche dei substrati di carburo di silicio (SiC) politipo 4H/6H integrati con pellicole di SiC 3C-N coltivate epitazialmente.La transizione politipica tra 4H/6H-SiC e 3C-N-SiC offre opportunità uniche per migliorare le prestazioni dei dispositivi semiconduttori a base di SiCAttraverso la deposizione di vapore chimico ad alta temperatura (CVD), le pellicole 3C-SiC vengono depositate su substrati 4H/6H-SiC, con l'obiettivo di ridurre la disadattamento e la densità di dislocazione del reticolo.Analisi dettagliata mediante diffrazione a raggi X (XRD), la microscopia di forza atomica (AFM) e la microscopia elettronica di trasmissione (TEM) rivelano l'allineamento epitaxiale e la morfologia superficiale dei film.Le misurazioni elettriche indicano una migliore mobilità del vettore e una maggiore tensione di rottura, rendendo questa configurazione di substrato promettente per le applicazioni elettroniche ad alta potenza e ad alta frequenza di prossima generazione.Lo studio sottolinea l'importanza di ottimizzare le condizioni di crescita per ridurre al minimo i difetti e migliorare la coerenza strutturale tra i diversi politipi di SiC.
I substrati di carburo di silicio (SiC) di politipo 4H/6H (P) con pellicole SiC 3C-N (dopate di azoto) presentano una combinazione di proprietà che sono vantaggiose per vari prodotti ad alta potenza, ad alta frequenza,e applicazioni ad alta temperaturaEcco le principali proprietà di questi materiali:
Queste proprietà rendono la combinazione di 4H/6H-P e 3C-N SiC un substrato versatile per una vasta gamma di applicazioni elettroniche, optoelettroniche e ad alta temperatura.
La combinazione di substrati SiC 4H/6H-P e 3C-N ha una vasta gamma di applicazioni in diversi settori, in particolare in dispositivi ad alta potenza, alta temperatura e alta frequenza.Di seguito sono riportate alcune delle principali applicazioni:
Queste applicazioni evidenziano la versatilità e l'importanza dei substrati 4H/6H-P 3C-N SiC nel promuovere la tecnologia moderna in una serie di settori.
Qual e' la differenza tra 4H-SiC e 6H-SiC?
In breve, quando si sceglie tra 4H-SiC e 6H-SiC: optare per 4H-SiC per elettronica ad alta potenza e ad alta frequenza in cui la gestione termica è fondamentale.Scegliere 6H-SiC per applicazioni che danno la priorità alle emissioni luminose e alla durata meccanica, compresi i LED e i componenti meccanici.
Parole chiave: SiC Substrato SiC wafer wafer di carburo di silicio