Marchio: | ZMSH |
Substrato quadrato SIC 5×5 10×10 350um Sotto asse: 2,0°-4,0° verso la produzione
I substrati quadrati di carburo di silicio (SiC) sono materiali critici nei dispositivi semiconduttori avanzati, in particolare nelle applicazioni ad alta potenza e ad alta frequenza.tensione di rottura elevata, e ampia banda lo rendono una scelta ideale per la prossima generazione di elettronica di potenza, specialmente in ambienti difficili.La forma quadrata di questi substrati facilita un uso efficiente nella fabbricazione dei dispositivi e assicura la compatibilità con varie apparecchiature di lavorazioneInoltre, i substrati di SiC con angoli fuori asse che vanno da 2,0° a 4,0° sono ampiamente utilizzati per migliorare la qualità dello strato epitaxiale riducendo difetti quali micropipes e lussazioni.Questi substrati svolgono anche un ruolo fondamentale nello sviluppo di diodi ad alte prestazioni, transistor e altri componenti elettronici in cui l'elevata efficienza e l'affidabilità sono fondamentali.I substrati quadrati di SiC offrono soluzioni promettenti in settori quali i veicoli elettriciLa ricerca in corso si concentra sull'ottimizzazione della produzione di substrati di SiC per ridurre i costi e migliorare le prestazioni dei materiali.Questo riassunto illustra l'importanza dei substrati quadrati di SiC e evidenzia il loro ruolo nel progresso delle moderne tecnologie dei semiconduttori.
Le proprietà di un substrato quadrato di carburo di silicio (SiC) sono fondamentali per le sue prestazioni nelle applicazioni di semiconduttori.
Largo intervallo di banda (3,26 eV): Il SiC ha un intervallo di banda molto più ampio del silicio, consentendogli di operare a temperature, tensioni e frequenze più elevate senza degradare le prestazioni.
Alta conduttività termica (3,7 W/cm·K): L'eccellente conduttività termica del SiC consente un'efficace dissipazione del calore, rendendolo ideale per applicazioni ad alta potenza.
Campo elettrico ad alta rottura (3 MV/cm): Il SiC può resistere a campi elettrici più elevati del silicio, che è fondamentale per i dispositivi ad alta tensione, riducendo il rischio di guasto e migliorando l'efficienza.
Alta mobilità elettronica (950 cm2/V·s): Anche se leggermente inferiore al silicio, il SiC offre comunque una buona mobilità elettronica, consentendo velocità di commutazione più rapide nei dispositivi elettronici.
Durezza meccanica: Il SiC è un materiale estremamente duro con una durezza di Mohs di circa 9.5, rendendolo altamente resistente all'usura e in grado di mantenere l'integrità strutturale in condizioni estreme.
Stabilità chimica: Il SiC è chimicamente inerte, resistente all'ossidazione e alla corrosione, il che lo rende adatto a condizioni chimiche e ambientali difficili.
Angolo fuori asse: Molti substrati di SiC hanno un taglio fuori asse (ad esempio, 2,0°-4,0°) per migliorare la crescita dello strato epitaxiale, riducendo i difetti come i micropipes e le lussazioni nella struttura cristallina.
Bassa densità di difetti: I substrati di SiC di alta qualità hanno una bassa densità di difetti cristallini, migliorando le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi elettronici.
Queste proprietà rendono i substrati quadrati di SiC ideali per applicazioni in elettronica di potenza, veicoli elettrici, telecomunicazioni e sistemi di energia rinnovabile,dove è essenziale un'elevata efficienza e durata.
I principali parametri di prestazione | |
Nome del prodotto
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Substrato di carburo di silicio, wafer di carburo di silicio, wafer di SiC, substrato di SiC
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Metodo di crescita
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MOCVD
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Struttura cristallina
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6H, 4H
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Parametri del reticolo
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6H ((a=3,073 Å c=15,117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å) |
Sequenza di impilazione
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6H: ABCACB,
4H: ABCB |
Grado
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Grado di produzione, grado di ricerca, grado di simulazione
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Tipo di conduttività
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di tipo N o semisolatrici |
Fessura di banda
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3.23 eV
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Durezza
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9.2 (Mohs)
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Conduttività termica @300K
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3.2~4.9 W/cm.K
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Costanti dielettrici
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e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
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Resistenza
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4H-SiC-N: 0,015 ~ 0,028 Ω·cm, 6H-SiC-N: 0,02 ~ 0,1 Ω·cm, 4H/6H-SiC-SI: > 1E7 Ω·cm |
Imballaggio
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Classe 100 sacchetto pulito, in classe 1000 stanza pulita
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I substrati quadrati di carburo di silicio (SiC) hanno trovato applicazioni reali in varie industrie ad alta tecnologia, principalmente a causa delle loro eccezionali proprietà termiche, elettriche e meccaniche.Alcune delle principali applicazioni sono::
Queste applicazioni dimostrano la versatilità e l'impatto dei substrati quadrati di SiC nel consentire soluzioni ad alte prestazioni ed efficienti dal punto di vista energetico in diversi settori.
D: Cosa sono i substrati di SiC?
A:I wafer e i substrati di carburo di silicio (SiC) sono:materiali specializzati utilizzati nella tecnologia dei semiconduttori a base di carburo di silicio, un composto noto per la sua elevata conduttività termica, eccellente resistenza meccanica e ampio intervallo.