• 6H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda
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6H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda

6H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda

Dettagli:

Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Numero di modello: 4H Substrato/wafer SiC semi-isolatore

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 1
Tempi di consegna: 2-4 settimane
Termini di pagamento: T/T
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Grado: Grado di produzione Grado di ricerca Grado di manichino Diametro: 100.0 mm +/- 0,5 mm
Spessore: 500 um +/- 25 um (tipo semisolatore), 350 um +/- 25 um (tipo N) Orientamento del wafer: Sull'asse: <0001> +/- 0,5 gradi per 4H-SI Sull'asse: 4,0 gradi verso <11-20> +/- 0,5 gradi per 4H-N
Resistenza elettrica (ohm-cm): 4H-N 0,015-0,028 4H-SI>1E5 Concentrazione di doping: Tipo N: ~ 1E18/cm3 Tipo SI (dopato in V): ~ 5E18/cm3
Piano primario: 32.5 mm +/- 2,0 mm Lunghezza piana secondaria: 18.0 mm +/- 2,0 mm
Orientamento piano secondario: Silicio verso l'alto: 90° CW dal piano primario +/- 5,0°
Evidenziare:

6H-N Semi-isolatore SiC Substarte

,

6H-N Wafer SiC semi-isolatore

,

Semi-isolatore SiC Substarte

Descrizione di prodotto

6H-N Substrato/wafer SiC semi-isolatore per MOSFET, JFET, BJT, banda larga ad alta resistività

Abstract del substrato/wafer SiC semisolatore

I substrati/wafer a carburo di silicio (SiC) semi-isolatori sono emersi come materiali cruciali nel campo dei dispositivi elettronici avanzati.elevata conduttività termicaQuesto riassunto fornisce una panoramica delle proprietà e delle applicazioni dei substrati/wafer semi-isolatori di SiC.Parla del loro comportamento semi-isolatorio., che inibisce il libero movimento degli elettroni, migliorando così le prestazioni e la stabilità dei dispositivi elettronici.L'ampia banda di SiC consente elevate velocità di deriva elettronica e di saturazioneInoltre, l'eccellente conduttività termica del SiC garantisce un'efficiente dissipazione del calore,che lo rende adatto per l'uso in ambienti operativi difficiliLa stabilità chimica e la durezza meccanica del SiC ne migliorano ulteriormente l'affidabilità e la durata in varie applicazioni.i substrati/wafer SiC semi-isolatori offrono una soluzione convincente per lo sviluppo di dispositivi elettronici di nuova generazione con prestazioni e affidabilità migliorate;.

Vitrina del substrato/wafer SiC semisolatore

6H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda 06H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda 16H-N Semi-isolatore SiC Substarte / Wafer Per MOSFETs、JFETs BJTs Alta resistività Ampia banda 2

Grafico dei dati del substrato/wafer SiC semisolatore (parzialmente)

I principali parametri di prestazione
Nome del prodotto
Substrato di carburo di silicio, wafer di carburo di silicio, wafer di SiC, substrato di SiC
Metodo di crescita
MOCVD
Struttura cristallina
6H, 4H
Parametri del reticolo
6H ((a=3,073 Å c=15,117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å)
Sequenza di impilazione
6H: ABCACB,
4H: ABCB
Grado
Grado di produzione, grado di ricerca, grado di simulazione
Tipo di conduttività
di tipo N o semisolatrici
Fessura di banda
3.23 eV
Durezza
9.2 (Mohs)
Conduttività termica @300K
3.2~4.9 W/cm.K
Costanti dielettrici
e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
Resistenza
4H-SiC-N: 0,015 ~ 0,028 Ω·cm,
6H-SiC-N: 0,02 ~ 0,1 Ω·cm,
4H/6H-SiC-SI: > 1E7 Ω·cm
Imballaggio
Classe 100 sacchetto pulito, in classe 1000 stanza pulita

 

Specificazione standard
Nome del prodotto Orientazione Dimensione standard Spessore Polizione  
Substrato di 6H-SiC
Substrato di 4H-SiC
< 1000>
<0001> 4° verso <11-20>
< 11-20>
< 10-10>
O altri angoli fuori luogo
10x10 mm
10x5 mm
5x5 mm
20x20 mm
φ2" x 0,35 mm
φ3" x 0,35 mm
φ4" x 0,35 mm
φ4" x 0,5 mm
φ6" x 0,35 mm
O altri
0.1 mm
0.2 mm
0.5 mm
1.0 mm
2.0 mm
O altri
Terreno buono
di larghezza uguale o superiore a 20 mm
Doppia facciata lucida

Roughness: Ra<3A(0,3nm)
Inchiesta Online

 

applicazioni chiave:

I substrati/wafer a carburo di silicio (SiC) semi-isolatori trovano diverse applicazioni in diversi dispositivi elettronici ad alte prestazioni.

  1. Potenza elettronica:I substrati di SiC semisolatori sono ampiamente utilizzati nella produzione di dispositivi di potenza come i transistor a effetto campo a semiconduttori di ossido metallico (MOSFET),Transistor a effetto campo di giunzione (JFET)L'ampio intervallo di banda del SiC consente a questi dispositivi di operare a temperature e tensioni più elevate,risultante in un miglioramento dell'efficienza e una riduzione delle perdite nei sistemi di conversione di potenza per applicazioni quali i veicoli elettrici, le energie rinnovabili e le fonti di alimentazione industriale.

  2. Dispositivi a radiofrequenza (RF):Le onde SiC sono utilizzate in dispositivi RF come amplificatori di potenza a microonde e interruttori RF.dispositivi RF ad alta potenza per applicazioni quali la comunicazione wireless, sistemi radar e comunicazioni satellitari.

  3. Optoelettronica:I substrati di SiC semi-isolatori sono utilizzati nella fabbricazione di fotodettori ultravioletti (UV) e diodi emettitori di luce (LED).La sensibilità del SiC alla luce UV lo rende adatto per applicazioni di rilevamento UV in settori quali il rilevamento delle fiamme, sterilizzazione UV e monitoraggio ambientale.

  4. elettronica ad alta temperatura:I dispositivi SiC funzionano in modo affidabile a temperature elevate, rendendoli adatti per applicazioni ad alta temperatura come l'aerospaziale, l'automotive e la trivellazione.I substrati di SiC sono utilizzati per la produzione di sensori, attuatori e sistemi di controllo in grado di resistere a condizioni operative difficili.

  5. Fotonica:I substrati di SiC sono impiegati nello sviluppo di dispositivi fotonici come interruttori ottici, modulatori e guide d'onda.L'ampia banda di SiC e la sua elevata conduttività termica consentono la fabbricazione di, dispositivi fotonici ad alta velocità per applicazioni nelle telecomunicazioni, sensori e calcoli ottici.

  6. Applicazioni ad alta frequenza e ad alta potenza:I substrati di SiC sono utilizzati nella produzione di dispositivi ad alta frequenza e alta potenza come diodi di Schottky, tiristori e transistor ad alta mobilità elettronica (HEMT).Questi dispositivi trovano applicazioni nei sistemi radar, infrastrutture di comunicazione wireless e acceleratori di particelle.

In sintesi, i substrati/wafer SiC semi-isolatori svolgono un ruolo cruciale in varie applicazioni elettroniche, offrendo prestazioni superiori, affidabilità,e efficienza rispetto ai materiali semiconduttori tradizionaliLa loro versatilità li rende una scelta preferita per i sistemi elettronici di nuova generazione in molteplici settori.

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