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Dettagli dei prodotti

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Wafer del carburo di silicio
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4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer

4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer

Marchio: ZMKJ
Numero di modello: P-grado 4inch
MOQ: 1pcs
prezzo: 600-1500usd/pcs by FOB
Dettagli dell' imballaggio: singolo pacchetto del wafer nella stanza di pulizia di 100 gradi
Condizioni di pagamento: T / T, Western Union, MoneyGram
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
La Cina
Materiale:
Tipo 4H-N di monocristallo sic
Grado:
Prodotto manifatturiero/ricerca/produzione
Thicnkss:
350um o 500um
Suraface:
CMP/MP
Applicazione:
prova di lucidatura del creatore del dispositivo
Diametro:
100 ± 0,3 mm
Capacità di alimentazione:
1-50pcs/month
Evidenziare:

substrato del carburo di silicio

,

sic wafer

Descrizione di prodotto

4H-N Grado di prova 6 pollici di diametro 150 mm carburo di silicio, substrati a singolo cristallo (sic), wafer, lingotti di cristallo sicdi una lunghezza di 20 mm o più ma non superiore a 50 mm,Wafer a cristallo di carburo di silicio/Wafer a taglio su misura

A proposito del cristallo di carburo di silicio (SiC)

Il carburo di silicio (SiC), noto anche come carborundo, è un semiconduttore contenente silicio e carbonio con formula chimica SiC.Il SiC è utilizzato nei dispositivi elettronici semiconduttori che funzionano ad alte temperature o alte tensioniSiC è anche uno dei componenti importanti del LED, è un substrato popolare per la coltivazione di dispositivi GaN e funge anche da diffusore di calore nei LED ad alta potenza

 

4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 0

4 pollici di diametro Carburo di silicio (SiC) Specifica del substrato

 Grado

Grado di produzione MPD zero

(Grado Z)

Grado di produzione

(Grado P)

Grado D (D Grade)

Diametro

990,5-100 mm

 Spessore

4H-N

350 μm±25 μm

4H-SI

500 μm±25 μm

 Orientazione dei wafer

Al di fuori dell'asse: 4,0° verso l'alto 1120 > ±0,5° per 4H-N Sul asse: <0001> ±0,5° per 4H-SI

 Densità di micropipe

4H-N

0.5 cm-2

2 cm-2

15 cm-2

4H-SI

1 cm-2

5 cm-2

15 cm-2

 Resistenza

4H-N

00,015 - 0,025 Ω·cm

0.015­0.028 Ω·cm

4H-SI

1E7 Ω·cm

1E5 Ω·cm

 Piano primario

{10-10} ± 5,0°

 Lunghezza piatta primaria

32.5 mm±2.0 mm

 Lunghezza piatta secondaria

180,0 mm±2,0 mm

 Orientazione piatta secondaria

Silicone verso l'alto: 90° CW. da Prime flat ±5,0°

 Esclusione dei bordi

2 mm

 LTV/TTV/Bow/Warp

4 μm/10 μm /25 μm /35 μm

10 μm/15 μm /25 μm /40 μm

 Roverezza

Ra polacco1 nm

CMP Ra0.5 nm

Rotture da luce ad alta intensità

Nessuna

Lunghezza cumulativa10 mm, lunghezza singola ≤ 2 mm

Piastre esessuali per luce ad alta intensità

Superficie cumulata00,05%

Superficie cumulata00,1%

Aree di politipo per luce ad alta intensità

Nessuna

Superficie cumulata3%

Inclusioni di carbonio visivo

Superficie cumulata00,05%

Superficie cumulata3%

Rischi di luce ad alta intensità

Nessuna

Lunghezza cumulativa1×diametro del wafer

 Chip di bordo

Nessuna

5 consentito,1 mm ciascuno

Contaminazione da luce ad alta intensità

Nessuna

 Imballaggio

Cassetta a più wafer o contenitore a wafer singolo

Nota:
* I limiti di difetto si applicano a tutta la superficie del wafer, ad eccezione della zona di esclusione dei bordi.

4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 14" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 24" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 3

 

Applicazioni dei substrati di SiC
 
4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 4
 
CATALOGO DIMENSIONE COMUNE                             

 

Tipo 4H-N / Wafer/ingotti SiC ad alta purezza
Wafer SiC tipo N da 2 pollici 4H/ingotti
Wafer SiC tipo N da 3 pollici 4H
Wafer SiC di tipo N da 4 pollici 4H/ingotti
Wafer SiC tipo N da 6 pollici 4H/ingotti

 

4H semi-isolatore / alta purezzaWafer a base di SiC

Wafer SiC semisolatore da 2 pollici 4H
Wafer SiC semi-isolatore da 3 pollici 4H
Wafer SiC semisolatore da 4 pollici 4H
Wafer SiC semi-isolatore da 6 pollici 4H
 
 
Wafer SiC di tipo 6H N
Wafer SiC tipo N da 2 pollici 6H/ingot

 
Dimensioni personalizzate per 2-6 pollici
 

 

Vendite e servizio clienti

Acquisto di materiali

Il dipartimento di acquisto dei materiali è responsabile della raccolta di tutte le materie prime necessarie per la produzione del prodotto.comprese le analisi chimiche e fisiche sono sempre disponibili.

Qualità

Durante e dopo la fabbricazione o la lavorazione dei vostri prodotti, il dipartimento di controllo qualità è coinvolto nel garantire che tutti i materiali e le tolleranze soddisfino o superino le vostre specifiche.

 

Servizio

Siamo orgogliosi di avere personale di ingegneria commerciale con oltre 5 anni di esperienza nel settore dei semiconduttori.Sono addestrati per rispondere alle domande tecniche e fornire preventivi tempestivi per le vostre esigenze.

Siamo al tuo fianco in qualsiasi momento quando hai un problema, e lo risolviamo in 10 ore.

4" silicio sul grado 4H di perfezione di produzione dei wafer dello zaffiro N-ha verniciato sic i wafer 5

 

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