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Gli anelli in ceramica a carburo di silicio sono componenti di ingegneria di precisione fabbricati con ceramica a carburo di silicio (SiC) di alta purezza.eccellente resistenza alla corrosione, elevata resistenza meccanica e resistenza all'usura superiore, gli anelli in ceramica SiC sono ampiamente utilizzati nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori, nei sistemi a vuoto, nei forni ad alta temperatura,e applicazioni industriali di precisione.

Attraverso processi avanzati di formazione, sinterizzazione e lavorazione di precisione, questi componenti possono ottenere tolleranze dimensionali strette, geometrie complesse,e eccellenti finiture superficiali per soddisfare i requisiti industriali più esigenti.

Caratteristiche chiave

1. eccellente prestazione ad alta temperatura

• Resiste ad ambienti ad alta temperatura fino a1600°C+a seconda del grado del materiale e delle condizioni di applicazione
• Mantiene la resistenza meccanica e la stabilità dimensionale a temperature elevate
• Ideale per la lavorazione termica, l'epitaxia, la diffusione e le applicazioni a forno ad alta temperatura

2. Alta purezza e bassa contaminazione

• Fabbricazione a partire da materiali di carburo di silicio di alta purezza
• Bassa produzione di particelle e minima contaminazione metallica
• Adatti per ambienti di pulizia dei semiconduttori e applicazioni di lavorazione dei wafer

3- Un' eccezionale resistenza alla corrosione

• Eccellente resistenza agli acidi, agli alcali e agli ambienti plasmatici
• prestazioni stabili nei confronti di gas di processo aggressivi qualiCl2, HCl e NF3
• Adatti per l'incisione a semiconduttore, le apparecchiature CVD e PVD

4. Alta resistenza meccanica e resistenza all'usura

• Durezza di Mohs di circa9
• Ottima resistenza all'abrasione per una lunga durata di vita
• Adatti a strutture di supporto di precisione e componenti meccanici

5. Capacità di lavorazione di precisione

I processi di lavorazione disponibili includono:

• Macchine per la lavorazione del diametro esterno e del diametro interno
• Smalzaggio e lucidatura
• Controllo delle rigide tolleranze dimensionali e geometriche
• Strutture complesse personalizzate

Specificativi del prodotto

Applicazioni

Apparecchiature per la produzione di semiconduttori

• Anelli di supporto per wafer
• Componenti di camere a semiconduttori
• Parti di apparecchiature CVD / PECVD
• Componenti per forni di crescita epitaxiali
• Componenti RTP (Rapid Thermal Processing)
• Sistemi di movimentazione e di supporto dei wafer

Industria fotovoltaica

• Componenti per forni ad alta temperatura
• Fabbricazione di apparecchi per il trattamento termico
• Parti di supporto per wafer di silicio

Sistemi a vuoto e ad alta temperatura

• Componenti di forni a vuoto
• Supporti del sistema di riscaldamento
• Strutture di isolamento termico

Applicazioni industriali di precisione

• Anelli di tenuta resistenti all'usura
• Componenti di pompe
• Componenti di posizionamento e di supporto

FAQ Anello ceramico al carburo di silicio (Anello ceramico al SiC)

D1: Cos'è un anello ceramico al carburo di silicio?

A:Un anello ceramico al carburo di silicio è un componente ceramico di precisione prodotto con carburo di silicio (SiC) di alta purezza.resistenza meccanica, e resistenza all'usura, che lo rende adatto per apparecchiature a semiconduttori, sistemi a vuoto e applicazioni ad alta temperatura.

D2: Quali sono i principali vantaggi degli anelli in ceramica SiC?

A:Gli anelli in ceramica SiC offrono diversi vantaggi:

• Eccellente stabilità ad alte temperature (fino a 1600°C+ a seconda del grado del materiale)
• Superiore resistenza al plasma e alla corrosione chimica
• Alta durezza e resistenza all'usura
• Bassa espansione termica ed eccellente stabilità dimensionale
• La produzione di particelle a basso contenuto per le applicazioni dei semiconduttori

Q3: Quali industrie utilizzano anelli ceramici al carburo di silicio?

A:Gli anelli in ceramica SiC sono ampiamente utilizzati in:

• Apparecchiature per la produzione di semiconduttori
• Sistemi CVD, PECVD e PVD
• Attrezzature per la lavorazione e la movimentazione di wafer
• Sistemi di crescita epitaxiale
• Forni a vuoto
• Apparecchiature industriali ad alta temperatura
• Apparecchiature di produzione fotovoltaiche