logo
Buon prezzo  in linea

Dettagli dei prodotti

Created with Pixso. Casa Created with Pixso. prodotti Created with Pixso.
Substrato a semiconduttore
Created with Pixso.

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico

Marchio: ZMSH
Numero di modello: Oggetti di legno
MOQ: 25
prezzo: 20USD
Dettagli dell' imballaggio: cartoni personalizzati
Condizioni di pagamento: T/T
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Diametro (pollici):
3/4/6/8/12
Trasmittanza interna:
>99,9%
Indice di rifrazione:
1.474698
Trasmittanza Totale:
> 92%
TTV:
<3>
Piatto:
<15>
Capacità di alimentazione:
dal caso
Evidenziare:

Wafer di quarzo ottico

,

Wafer di quarzo SiO2

,

Wafer di quarzo da 12'

Descrizione di prodotto

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2", 3", 4", 6", 8", 12" SiO₂ Semiconduttore Ottico

Introduzione del Wafer di quarzo

I wafer di quarzo sono fatti di biossido di silicio cristallino (SiO₂). Le proprietà uniche del quarzo lo rendono un materiale essenziale in varie industrie high-tech.

I wafer di quarzo mostrano caratteristiche eccellenti come l'alta resistenza termica, la trasmissione della luce superiore a specifiche lunghezze d'onda, l'inerzia chimica e un basso coefficiente di espansione termica. Queste caratteristiche li rendono altamente adatti per applicazioni che richiedono stabilità a temperature estreme, resistenza a sostanze chimiche aggressive e trasparenza in specifici intervalli spettrali.

In industrie come la produzione di semiconduttori, l'ottica e i MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), i wafer di quarzo sono ampiamente utilizzati grazie alla loro capacità di resistere alle alte temperature senza deformazioni o degradazioni. Servono come substrati per il deposito di film sottili, l'incisione di microstrutture o la fabbricazione di componenti di precisione che richiedono un'elevata accuratezza dimensionale e stabilità termica.

 

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico 0  Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico 1

Principio di fabbricazione del Wafer di quarzo

  1. Crescita del cristallo
    I lingotti di quarzo vengono coltivati utilizzando cristalli di seme naturali o sintetici attraverso metodi idrotermali o di fusione a fiamma (Verneuil).

  2. Taglio del lingotto
    I lingotti cilindrici vengono tagliati in wafer utilizzando seghe a filo diamantato, garantendo uniformità di spessore e minima perdita di taglio.

  3. Lappatura e lucidatura
    I wafer vengono lappati, incisi e poi lucidati per ottenere una finitura a specchio con bassa rugosità superficiale (Ra < 1 nm per wafer di grado ottico).

  4. Pulizia e ispezione
    La pulizia a ultrasuoni o RCA rimuove particolato e contaminanti metallici. Ogni wafer viene sottoposto a ispezione dimensionale e di planarità superficiale.

Specifiche del wafer di quarzo

Tipo di quarzo 4 6 8 12
Dimensione        
Diametro (pollici) 4 6 8 12
Spessore (mm) 0.05–2 0.25–5 0.3–5 0.4–5
Tolleranza del diametro (pollici) ±0.1 ±0.1 ±0.1 ±0.1
Tolleranza dello spessore (mm) Personalizzabile Personalizzabile Personalizzabile Personalizzabile
Proprietà ottiche        
Indice di rifrazione @365 nm 1.474698 1.474698 1.474698 1.474698
Indice di rifrazione @546.1 nm 1.460243 1.460243 1.460243 1.460243
Indice di rifrazione @1014 nm 1.450423 1.450423 1.450423 1.450423
Trasmittanza interna (1250–1650 nm) >99.9% >99.9% >99.9% >99.9%
Trasmittanza totale (1250–1650 nm) >92% >92% >92% >92%
Qualità di lavorazione        
TTV (Variazione totale dello spessore, µm) <3 <3 <3 <3
Planarità (µm) ≤15 ≤15 ≤15 ≤15
Rugosità superficiale (nm) ≤1 ≤1 ≤1 ≤1
Arco (µm) <5 <5 <5 <5
Proprietà fisiche        
Densità (g/cm³) 2.20 2.20 2.20 2.20
Modulo di Young (GPa) 74.20 74.20 74.20 74.20
Durezza Mohs 6–7 6–7 6–7 6–7
Modulo di taglio (GPa) 31.22 31.22 31.22 31.22
Coefficiente di Poisson 0.17 0.17 0.17 0.17
Resistenza alla compressione (GPa) 1.13 1.13 1.13 1.13
Resistenza alla trazione (MPa) 49 49 49 49
Costante dielettrica (1 MHz) 3.75 3.75 3.75 3.75
Proprietà termiche        
Punto di deformazione (10¹⁴.⁵ Pa·s) 1000°C 1000°C 1000°C 1000°C
Punto di ricottura (10¹³ Pa·s) 1160°C 1160°C 1160°C 1160°C
Punto di rammollimento (10⁷.⁶ Pa·s) 1620°C 1620°C 1620°C 1620°C

 

 

Domande frequenti sui wafer di quarzo

1. Cos'è un wafer di quarzo?

Un wafer di quarzo è un disco sottile e piatto fatto di biossido di silicio cristallino (SiO₂), tipicamente prodotto in dimensioni standard per semiconduttori (ad esempio, 2", 3", 4", 6", 8", o 12"). Noto per la sua elevata purezza, stabilità termica e trasparenza ottica, un wafer di quarzo viene utilizzato come substrato o supporto in varie applicazioni di alta precisione come la fabbricazione di semiconduttori, dispositivi MEMS, sistemi ottici e processi sotto vuoto.

 

2. Qual è la differenza tra quarzo e gel di silice?

Il quarzo è una forma solida cristallina di biossido di silicio (SiO₂), mentre il gel di silice è una forma amorfa e porosa di SiO₂, comunemente usata come essiccante per assorbire l'umidità.

  • Il quarzo è duro, trasparente e utilizzato in applicazioni elettroniche, ottiche e industriali.

  • Il gel di silice appare come piccole perle o granuli ed è utilizzato principalmente per il controllo dell'umidità in imballaggi, elettronica e stoccaggio.

 

3. Per cosa vengono utilizzati i cristalli di quarzo?

I cristalli di quarzo sono ampiamente utilizzati in elettronica e ottica grazie alle loro proprietà piezoelettriche (generano una carica elettrica sotto stress meccanico). Le applicazioni comuni includono:

  • Oscillatori e controllo della frequenza (ad esempio, orologi al quarzo, orologi, microcontrollori)

  • Componenti ottici (ad esempio, lenti, lamine d'onda, finestre)

  • Risonatori e filtri in dispositivi RF e di comunicazione

  • Sensori per pressione, accelerazione o forza

  • Fabbricazione di semiconduttori come substrati o finestre di processo

 

4. Perché il quarzo viene utilizzato nei microchip?

Il quarzo viene utilizzato nelle applicazioni relative ai microchip perché offre:

  • Stabilità termica durante processi ad alta temperatura come la diffusione e la ricottura

  • Isolamento elettrico grazie alle sue proprietà dielettriche

  • Resistenza chimica ad acidi e solventi utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori

  • Precisione dimensionale e bassa espansione termica per un allineamento litografico affidabile
    Sebbene il quarzo stesso non venga utilizzato come materiale semiconduttore attivo (come il silicio), svolge un ruolo di supporto vitale nell'ambiente di fabbricazione, in particolare in forni, camere e substrati di fotomaschere.

 

 

Prodotti correlati

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico 2

Componenti ottici in quarzo zaffiro JGSI JGS2 personalizzabili, forte stabilità termica

 

Wafer di quarzo Wafer di quarzo 2" 3" 4" 6" 8" 12" SiO2 semiconduttore ottico 3

Finestra in vetro di quarzo, porta ottica in silice fusa UV, rivestimento di dimensioni personalizzate disponibile