• SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per epitaxia personalizzato
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SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per epitaxia personalizzato

SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per epitaxia personalizzato

Dettagli:

Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 10
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Punto di fusione: ~1650 ∼1700 °C colore: Trasparente a giallo pallido
Durezza di Mohs: 6 ¢6.5 Tipico orientamento cristallino: (001), (100), (110)
Evidenziare:

Substrato LSAO personalizzato

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Epitaxy LSAO Substrato

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SrLaAlO4 LSAO Substrato

Descrizione di prodotto

SrLaAlO4 /LaSrAlO4 LSAO10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per Epitaxy personalizzato

 

 

 

Riassunto di SrLaAlO4 / LaSrAlO4/LASOSrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per epitaxia personalizzato 0

SrLaAlO4, scritto anche comeLaSrAlO4in base all'ordine elementare, è un cristallo di ossido complesso composto da stronzio (Sr), lantano (La), alluminio (Al) e ossigeno (O).ampiamente studiato e utilizzato nella scienza dei materiali a causa della sua struttura favorevoleIl materiale è conosciuto soprattutto per il suo uso come substrato per la crescita epitaxiale di film superconduttori ad alta temperatura (HTS).

 

Tabella degli attributi diSrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

Immobili Valore / Descrizione
Formula chimica SrLaAlO4 o LaSrAlO4
Struttura cristallina Tetragonale
Gruppo spaziale I4/mm
Costanti di reticolo a = 3,754 Å, c = 12,63 Å (tipico)
Densità ~ 6,56 g/cm3
Punto di fusione ~1650 ∼1700 °C
Coefficiente di espansione termica ~ 7,4 × 10−6 /K
Indice di rifrazione ~1,84 (a 633 nm di lunghezza d'onda)
Colore Trasparente a giallo pallido
Durezza di Mohs 6 ¢6.5
Tipico orientamento cristallino (001), (100), (110)
Principali applicazioni Substrato per la crescita epitassiale di superconduttori ad alta Tc come YBCO
Corrispondenza di reticolo Buona corrispondenza con YBa2Cu3O7 (YBCO), La2CuO4 e ossidi simili
Metodo di crescita Metodo Czochralski (CZ)
Forma cristallina cristallo singolo
Finitura superficiale SSP (polito su un solo lato), DSP (polito su due lati)

 

 

Immagine fisica delSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASOvisualizzazione

 

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Benefici delSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASOcome substrato

 

Corrispondenza reticolare:Le costanti di reticolo di SrLaAlO4 corrispondono strettamente a quelle di YBCO e La2CuO4, con conseguente bassa deformazione e interfacce epitaxiali di alta qualità.

 

Stabilità termica:Resiste ai processi di deposizione ad alta temperatura (fino a ~ 1000 °C) senza degradazione significativa.

 

Stabilità chimica:Inerte contro la maggior parte delle atmosfere di deposizione, compresi gli ambienti ricchi di ossigeno utilizzati nell'ossido MBE e PLD.

 

Qualità della superficie:La lucidatura di alta qualità produce superfici piatte e privi di difetti con una rugosità < 1 nm RMS, essenziale per l'uniformità del film sottile.

 

Applicazioni comuni di  IlSrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

 

Substrato epitaxiale per superconduttori ad alta Tc

L'uso più diffuso di LaSrAlO4 è come substrato per YBCO (YBa2Cu3O7−x) e simili pellicole HTS.essenziale per massimizzare la densità di corrente critica (Jc) e la temperatura di transizione (Tc).

 

Ossidi elettronici

LaSrAlO4 è adatto per la crescita di altre pellicole di ossido di tipo perovskite utilizzate in ferroelettrici, dielettrici e spintronica..

 

Dispositivi fotonici ed elettro-ottici

A causa della sua trasparenza ottica e della sua superficie piana e stabile, può anche servire come ospite o base per rivestimenti ottici, guide d'onda e dispositivi ottici non lineari nel campo visibile e vicino all'infrarosso.

 

Heterostrutture multiferroiche

Il SrLaAlO4 è utilizzato anche nella ricerca che coinvolge dispositivi multiferrosi e magnetoelettrici, dove sono essenziali interfacce di alta qualità tra strati.

 

Domande e risposte

 

D:Perché SrLaAlO4 è importante?

 

A:L'importanza di SrLaAlO4 deriva principalmente dalla sua compatibilità cristallografica con film superconduttori ad alto Tc.Una delle principali sfide nella coltivazione di film sottili superconduttori di alta qualità è la disadattamento del reticolo tra film e substratoAnche un piccolo disallineamento può causare dislocazioni inadeguate, che degradano le proprietà superconduttive..

 

Inoltre, il coefficiente di espansione termica di SrLaAlO4 è anche vicino a quello di questi film, riducendo al minimo lo stress termico durante il ciclo di temperatura (ad esempio,dalla deposizione ad alta temperatura al raffreddamento per misurazioni o applicazioni criogeniche).

 

 

Altre raccomandazioni relative al prodotto

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SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt Substrato per epitaxia personalizzato 4

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