Pini di saffiro per semiconduttori Pini di saffiro di alta purezza

Pini di saffiro per semiconduttori Pini di saffiro di alta purezza

Dettagli:

Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 25
Prezzo: undetermined
Imballaggi particolari: plastica schiumosa + cartone
Tempi di consegna: 4 settimane
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1pcs/month
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Informazioni dettagliate

Durezza: 9 Sulla scala di Mohs Melting Point: >2,000°C
Thermal Conductivity: ~35 W/m·K Thermal Expansion: ~5.3 × 10⁻⁶/K
Evidenziare:

Semiconduttore Pin di sollevamento ceramico

,

Pin di sollevamento di zaffiro di alta purezza

,

pin di sollevamento di zaffiro

Descrizione di prodotto

Pini di saffiro per semiconduttori Pini di saffiro di alta purezza

 

 

Riassunto di Sapphire lift pinPini di saffiro per semiconduttori Pini di saffiro di alta purezza 0

 

 

 

Gli stivali da sollevamento a zaffiro sono componenti di precisione ampiamente utilizzati in

apparecchiature per la lavorazione dei semiconduttori, in particolare per la movimentazione di wafer,sistemi di crescita e di deposizione quali MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) e altri sistemi ad alta temperatura, vuoto,o ambienti corrosiviProdotti in ossido di alluminio monocristallino (Al2O3), noto anche come zaffiro sintetico, questi perni di sollevamento sono apprezzati per la loro eccezionale durezza, stabilità termica, resistenza chimica,e durabilità.

 

 

 

Proprietà dell'anello di sollevamento Sapphire

 

 

Immobili Valore
Durezza 9 sulla scala di Mohs (secondo solo al diamante)
Punto di fusione > 2000°C
Conduttività termica ~ 35 W/m·K
Espansione termica ~ 5,3 × 10−6/K
Modulo di Young ~ 345 GPa
Resistenza chimica Inerte alla maggior parte degli acidi, degli alcali e dei gas corrosivi
Altri dispositivi Ottimo isolante.
Trasparenza ottica Trasparente da UV a IR (150 nm ± 5,5 μm)

 

 

 

Gli stivali di zaffiro sono spesso progettati su misura

 

 

Vantaggi degli appendiabiti di zaffiro

 

a.Resistenza alle alte temperature

 

Lo zaffiro mantiene la sua resistenza meccanica a temperature superiori a 1.500 ° C, il che lo rende adatto per reattori epitaxiali e camere di deposizione in cui altri materiali possono deformarsi, ossidarsi o degradarsi.

 

b. Stabilità chimica

 

Lo zaffiro è chimicamente inerte nei gas reattivi e corrosivi come H2, NH3 e HF, garantendo prestazioni a lungo termine in CVD e ambienti di incisione.

 

c. Estrema durezza

 

L'elevata durezza superficiale resiste all'usura e agli graffi causati dal contatto con il wafer e dall'azione meccanica, riducendo al minimo la produzione di particelle e la contaminazione.

 

d. Precisione dimensionale

 

Lo zaffiro può essere lavorato con tolleranze strette (± 1 μm), garantendo un'altezza di sollevamento consistente del wafer, precisione di posizionamento e affidabilità dell'allineamento.

 

e.Generazione di particelle a basso contenuto

 

A differenza della ceramica o dei metalli rivestiti che possono sgonfiarsi o fuoriuscire gas durante il ciclo termico, lo zaffiro non produce particelle, il che è fondamentale per ambienti di processo ultra-puri.

 

f.Lunga durata di vita

 

La resistenza all'usura e la stabilità degli zaffiri in condizioni estreme contribuiscono a una minore frequenza di manutenzione e a un tempo di funzionamento più lungo delle apparecchiature.

 

 

 

Immagine fisica di un alzo di zaffiro

 

 

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Applicazioni degli appendiabiti di zaffiro

 

Gli spilli elevatori di zaffiro sono utilizzati in una serie di processi di semiconduttori e materiali avanzati in cui i wafer devono essere manipolati con precisione durante la fabbricazione.

 

a. Sistemi MOCVD

 

  • Crescita dei semiconduttori composti basati su GaN, GaAs e InP

  • Produzione di LED e diodi laser

  • Oggetti e substrati preparati per l'epi

 

b.Reattori PECVD e LPCVD

  • Trasferimento di wafer durante la deposizione di film sottile a base di plasma

  • Utilizzato in microelettronica, celle solari, MEMS e fotonica

 

c.Forni di lavorazione termica

  • Fase di ricottura, ossidazione o diffusione ad alta temperatura

 

d.Ispezione e manipolazione dei wafer

  • Sistemi meccanici che sostengono o manipolano temporaneamente le wafer

 

e.Camere di incisione e di pulizia

  • Quando la resistenza chimica è critica durante la prepulizia o lo stripping dei wafer

 

Domande e risposte

 

D: Quali sono i fattori chiave da considerare quando si acquistano gli spilli di zaffiro?

 

A:Scenario di applicazione

 

  • Condizioni materiali: Determinare le condizioni ambientali a cui saranno esposti i perni di sollevamento, quali alte temperature o ambienti corrosivi.
  • Scopo: scegliere una progettazione adeguata in base all'applicazione specifica (ad esempio, misurazioni spettroscopiche, strumenti di precisione, ecc.).

   

Dimensioni e specifiche

 

  • Diametro e lunghezza: Selezionare il diametro e la lunghezza appropriati in base alle dimensioni dei campioni da sostenere o sollevare.
  • Requisiti di tolleranza: Assicurarsi che i perni di sollevamento soddisfino i requisiti di tolleranza dimensionale dell'applicazione per mantenere la precisione.

 

Raccomandazioni relative ai prodotti

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Pini di saffiro per semiconduttori Pini di saffiro di alta purezza 4

 

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