• Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata
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Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata

Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata

Dettagli:

Marca: ZMSH
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Purezza: 990,9% Colore: Nero
Densità: 30,14 g/cm3 Forza flessibile: 410Mpa
Modulo di Young: 430 GPa Rapporto di Poisson: 0,17
Durezza della frattura: 2 ̊3MPa m1/2 Coefficiente di espansione termica: 4.1x10-6 [Temperatura normale ~ 800°C]
Evidenziare:

2 pollici di piatto in ceramica SiC

,

Piastra di ceramica SiC a misura personalizzata

,

Piatto ceramico da 4 pollici di SiC

Descrizione di prodotto

Piastra in ceramica SiC, per la lavorazione di wafer da 2 pollici, 4 pollici e 6 pollici e dimensioni personalizzate

 

 

La piastra ceramica per vassoi SiC

 

Le tavolette ceramiche a SiC (carburo di silicio) sono componenti specializzati progettati per applicazioni ad alte prestazioni, in particolare nell'industria dei semiconduttori.Questi vassoi svolgono un ruolo fondamentale nel processo di fabbricazione di dispositivi semiconduttori, che fornisce una piattaforma stabile e affidabile per la lavorazione di wafer di silicio.I vassoi in ceramica SiC possono resistere alle alte temperature richieste durante le varie fasi di lavorazione dei wafer, come epitaxia, diffusione e ossidazione.

Oltre alle loro proprietà termiche, i vassoi in SiC presentano una notevole resistenza meccanica, che consente loro di sostenere substrati pesanti senza deformarsi o crepare.La loro eccellente resistenza chimica garantisce la durata in presenza di materiali corrosivi spesso presenti nei processi di produzione dei semiconduttori.

Inoltre, le lastre in ceramica SiC contribuiscono a una migliore distribuzione del calore, che è essenziale per mantenere condizioni di lavorazione coerenti sulla superficie del wafer.Questa caratteristica aiuta a ridurre al minimo i difetti e migliora la qualità complessiva dei dispositivi semiconduttori.

Questi vassoi versatili possono anche essere personalizzati in varie dimensioni e forme per soddisfare specifiche esigenze di produzione, rendendoli un bene indispensabile nell'industria dei semiconduttori,dove la precisione e l'affidabilità sono fondamentali.

 

Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata 0

 


 

 

Proprietà della piastra ceramica a SiC

 

Alta stabilità termica:

Le lastre in ceramica SiC possono resistere a temperature estreme, rendendole adatte per applicazioni ad alta temperatura come la sinterizzazione e la lavorazione dei semiconduttori.

 

Eccellente resistenza meccanica:

Possedono una forza e una durezza superiori, che consentono loro di sopportare carichi pesanti senza deformazioni, garantendo durata e longevità.

 

Resistenza chimica:

I vassoi in SiC sono altamente resistenti alla corrosione e agli attacchi chimici, rendendoli ideali per l'uso in ambienti aggressivi, in particolare nella lavorazione chimica e nella produzione di semiconduttori.

 

Conduttività termica:

Queste piastre presentano una buona conduttività termica, favorendo una distribuzione efficiente del calore, che è essenziale nei processi che richiedono un controllo uniforme della temperatura.

 

Leggere:

Nonostante la loro robustezza, i vassoi in ceramica SiC sono relativamente leggeri, facilitando la manipolazione e il trasporto durante i processi di produzione.

 

Isolamento elettrico:

I materiali SiC hanno ottime proprietà di isolamento elettrico, che li rendono adatti per l'uso in applicazioni elettroniche in cui la conduttività elettrica deve essere ridotta al minimo.

 

A bassa espansione termica:

Il basso coefficiente di espansione termica garantisce la stabilità dimensionale in condizioni di temperatura variabile, riducendo il rischio di deformazione o crepa.

 

Produttore   ASUZAC ASUZAC Compagnia A Compagnia B Compagnia C
Nome del prodotto   ASiC SiC3N      
Metodo di produzione   Sinterizzazione a pressione normale Sinterizzazione a pressione normale Pressione a caldo CVD Si-SiC
Densità g·cm3 3.15 3.18 3.15 3.21 3.05
Durezza di Vicker   28 28 22 26 - Sì.
Forza flessibile MPa 410 450 600 590 220
Elasticità GPA 430 430 390 450 280
Tensione alla frattura Mpa/cm^0.5 2.5 2.5 4.4 - Sì. - Sì.
Espansione termica E-6/K 4.1 4.1 4.3 4 4.8
Conduttività termica W/m•K 170 140 230 250 225

 

Personalizzabilità:

Le tavole in ceramica SiC possono essere prodotte in varie dimensioni e forme, consentendo la personalizzazione per soddisfare esigenze specifiche di applicazione.

Queste proprietà rendono le lastre in ceramica SiC un componente essenziale in varie industrie, in particolare nella fabbricazione di semiconduttori, nella sinterizzazione ad alta temperatura e nella lavorazione chimica.

 


Applicazioni per le tavolette in ceramica a SiC

 

Fabbricazione di semiconduttori:

Le tavolette in ceramica SiC sono ampiamente utilizzate per supportare i wafer di silicio durante vari processi di fabbricazione, tra cui epitaxia, diffusione e ossidazione.La loro elevata stabilità termica e resistenza meccanica garantiscono condizioni di lavorazione ottimali e riducono al minimo i difetti.

 

Sinterizzazione ad alta temperatura:

Nella produzione di ceramiche e materiali avanzati, i vassoi a SiC sono utilizzati in processi di sinterizzazione ad alta temperatura,fornire una piattaforma affidabile che resista a condizioni estreme senza deformare.

 

Trasformazione chimica:

A causa della loro eccellente resistenza chimica, i vassoi in ceramica SiC sono ideali per la manipolazione di sostanze chimiche aggressive in laboratori e ambienti industriali.colonne di distillazione, e altre attrezzature che richiedono resistenza alle sostanze corrosive.

 

Componenti elettronici ed elettrici:

I vassoi di SiC servono da substrati nella fabbricazione di dispositivi e componenti elettronici,dove le loro proprietà isolanti e la conduttività termica sono cruciali per mantenere le prestazioni e l'affidabilità.

 

Applicazioni ottiche:

Nella produzione di componenti ottici, i vassoi in SiC sono utilizzati per supportare e elaborare materiali che richiedono un preciso controllo della temperatura e la stabilità, garantendo prodotti finali di alta qualità.

 

Industria aerospaziale e automobilistica:

Le lastre in ceramica SiC sono utilizzate nell'industria aerospaziale e automobilistica per le loro caratteristiche di leggerezza e resistenza elevata.in particolare nei componenti che richiedono gestione termica e resistenza alla corrosione.

 

Ricerca e sviluppo:

In ambienti di ricerca e sviluppo, i vassoi a SiC sono spesso utilizzati per installazioni sperimentali che comportano alte temperature o sostanze chimiche corrosive, fornendo una piattaforma robusta per la sperimentazione di materiali innovativi.

 


In mostra piastre in ceramica a base di SiC

 

Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata 1Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata 2

Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata 3Piastra in ceramica SiC per 2 pollici 4 pollici 6 pollici Wafer di lavorazione e taglia personalizzata 4

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