• MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato
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MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato

MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato

Dettagli:

Place of Origin: China
Marca: ZMSH
Numero di modello: Wafer MgO

Termini di pagamento e spedizione:

Tempi di consegna: 2-4weeks
Termini di pagamento: T/T
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Metodo di crescita: Fusione speciale ad arco Purezza tipica: 99.95%
Struttura cristallina: Cupi Costante di cella unitaria: a = 4,212 Å
Punto di fusione (°C): 2800 Densità: 3.58 (g/cm3)
Durezza: 5.5 (Mohs) Coefficiente di espansione termica, CTE (/K): 11.2 x 10-6
Evidenziare:

Wafer MgO monocristallino di ossido di magnesio

,

Wafer MgO personalizzato

,

Wafer MgO lucidato

Descrizione di prodotto

Wafer MgO (111) (100) Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato

Descrizione della wafer MgO:

I wafer monocristallini MgO sono un elemento base dei laboratori di film sottile per sostenere la crescita di film sottile epitaxiale di alta qualità di ossido (e metallo), tra cui semiconduttori, superconduttori, dielettrici, ferroelettrici,e ossidi ferromagneticiI cristalli di MgO crescono bene con difetti minimi, il che significa che è disponibile fino a 2 pollici di diametro e come materiale ad alta durezza può essere lucidato con una rugosità quasi su scala atomica (rms < 0,2 nm).
A causa della sua elevata trasparenza (anche a 0,5 mm di spessore > 85%), viene spesso utilizzato per esperimenti ottici per studiare il film in superficie,in tal caso selezionare il doppio lato lucido se si effettuano queste misurazioni in modalità trasmissione.

Il carattere della wafer MgO:

Isolamento elettrico: i wafer MgO presentano eccellenti proprietà di isolamento elettrico, che li rendono adatti per l'uso in dispositivi elettronici e strati isolanti in applicazioni per semiconduttori.
Stabilità termica: i wafer MgO hanno un'elevata stabilità termica e possono resistere a temperature elevate, il che è vantaggioso per le applicazioni che richiedono resistenza al calore.
Trasparenza ottica: in determinate lunghezze d'onda, i wafer MgO dimostrano una buona trasparenza ottica, rendendoli utili in applicazioni optoelettroniche come LED e diodi laser.
Durezza: i wafer MgO sono caratterizzati da un'elevata durezza, che contribuisce alla loro durata e resistenza all'usura e all'abrasione.
Inerzia chimica: i wafer MgO sono chimicamente inerti e resistenti alla corrosione, migliorando la loro idoneità per l'uso in ambienti difficili e processi chimici.
Struttura cristallina: i wafer MgO hanno in genere una struttura cristallina cubica, che può influenzare le loro proprietà fisiche e ottiche.
Proprietà dielettriche: i wafer MgO presentano proprietà dielettriche favorevoli, che li rendono adatti per l'uso in condensatori e altri componenti elettronici.
Proprietà magnetiche: in determinate configurazioni, i wafer MgO possono mostrare proprietà magnetiche, che sono vantaggiose per applicazioni in giunzioni di tunnel magnetici e dispositivi di stoccaggio magnetici.

Forma della wafer MgO:

 

Wafer MgO
Orientazione cristallina(100), (110), (111)
Trasmissione ottica> 90% (200 ~ 400 nm), > 98% (500 ~ 1000 nm)
Costante dielettrica9.65
Dimensioni10x10 mm, 20x20 mm, diametro 1 pollice, diametro 2 pollici, diametro 60 mm

Wafer MgO da 3 e 4 pollici sono disponibili su richiesta
Le dimensioni e gli orientamenti speciali sono disponibili su richiesta

Spessore standard0.5 mm o 1.0 mm
Polizionedi larghezza superiore a 50 mm
Orientazione cristallina+/- 0,5 gradi
Roverezza superficiale, Ra:< 0,5 nm (5 um x 5 um di superficie)
Paccoconfezionato con un sacchetto pulito di classe 100 in una stanza pulita di classe 1000

Fotografia fisica di MgO Wafer:

MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato 0MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato 1
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

Applicazione della wafer MgO:

 
1. Industria dei semiconduttori: i wafer MgO sono utilizzati nell'industria dei semiconduttori per vari scopi come materiale di substrato per la deposizione di film sottili, come strati isolanti nei dispositivi elettronici,e come strato tampone nelle giunzioni dei tunnel magnetici.
2Optoelettronica: i wafer MgO trovano applicazioni in dispositivi optoelettronici come LED (diodi emettitori di luce) e diodi laser a causa delle loro proprietà di isolamento elettrico e trasparenza alla luce.
3. Magnetic Storage: nel campo dello storage magnetico,Le wafer MgO sono utilizzate come strati di barriera di galleria nelle giunzioni di galleria magnetica per applicazioni in memoria ad accesso casuale magnetica (MRAM) e sensori magnetici.
4. Rivestimenti a barriera termica: i wafer MgO sono utilizzati nella fabbricazione di rivestimenti a barriera termica a causa delle loro proprietà termiche, come l'alto punto di fusione e la conduttività termica.
5. Imaging medico: i wafer MgO sono utilizzati nelle tecnologie di imaging medico, come le macchine a raggi X e gli scanner CT, come componenti nei rilevatori per convertire i raggi X in segnali elettrici.
6. Deposito di film sottile: i wafer MgO sono utilizzati come substrati per la deposizione di film sottili in varie applicazioni, tra cui l'ottica, i sensori e la microelettronica.
7Ricerca e sviluppo: i wafer MgO sono utilizzati nei laboratori di ricerca per scopi sperimentali, come lo studio della crescita di film sottili, delle proprietà superficiali e delle strutture elettroniche.

Immagine di applicazione della wafer MgO:

 
MgO Wafer 111 100 Monocristallo di ossido di magnesio lucidato Semiconduttore personalizzato 2

FAQ:

1.D: Che cosa sono i substrati di ossido di magnesio?
R: Il substrato monocristallino di ossido di magnesio è utilizzato per la produzione di film magnetici, film semiconduttori, film ottici, film superconduttori ad alta temperatura, ecc.

2.D: Come si pulisce il substrato MgO?
R: I singoli cristalli di ossido di magnesio assorbono l'umidità che danneggia la superficie dei cristalli.Per pulire i cristalli.I cristalli devono essere tenuti in questa soluzione fino a quando non siano pronti per la crescita del film.

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