SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm
Dettagli:
Luogo di origine: | Cina |
Marca: | ZMSH |
Numero di modello: | Wafer di soia |
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: | 5 |
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Tempi di consegna: | 2-4 settimane |
Termini di pagamento: | T/T |
Informazioni dettagliate |
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Diametro: | 100 ± 0,2 mm | Tipo/dopant: | P/B |
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orientamento: | 1-0-0) ± 0,5° | Spessore:: | 220 ± 10 nm |
Resistenza: | 80,5-11,5 ohm-cm | Finisci.: | Frontale lucidato |
Ossido termico di soia sepolto:: | Spessore: 3 μm±5% | Campi di manipolazione:: | Contattaci |
Evidenziare: | Wafer SOI da 100 mm,Wafer SOI da 150 mm,Wafer SOI di tipo P |
Descrizione di prodotto
SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm Tipo di dopante B Dispositivo: 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm
Pagina dettagliata del prodotto per wafer SOI (silicone su isolante)
Visualizzazione del prodotto
Introducendo i nostri wafer SOI ad alte prestazioni, disponibili in 100 e 150 mm di diametro, progettati per applicazioni elettroniche avanzate.offrendo un isolamento elettrico superioreIdeale per il calcolo ad alte prestazioni, la comunicazione RF, i dispositivi MEMS e l'elettronica di potenza.le nostre onde SOI garantiscono prestazioni e affidabilità di prim'ordine.
Specificità
Dimensioni del wafer:
- Opzioni di diametro: 100 mm (4 pollici) e 150 mm (6 pollici)
Strato di dispositivo:
- Materiale: silicio
- Spessore: 220 nanometri
- Tipo di dopante: tipo P
- Elemento dopante: Boro (B)
- Resistenza: da 8,5 a 11,5 ohm-cm
Strato di ossido sepolto:
- Materiale: Diossido di silicio (SiO2)
- Spessore: personalizzabile in base alle esigenze dell'applicazione (in genere da 200 nm a 2 μm)
Manico Wafer:
- Materiale: silicio
- Tipo: tipo P (dopato con boro)
- Spessore: spessore standard di 500-700 μm, fornendo un supporto meccanico robusto
Caratteristiche chiave
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Isolamento elettrico superiore:
- Lo strato BOX garantisce un eccellente isolamento elettrico tra lo strato del dispositivo e il wafer del manico, riducendo significativamente la capacità parassitaria e il crosstalk.
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Strato di dispositivi di alta qualità:
- Lo strato di dispositivo in silicio di tipo P di spessore 220 nm, dopato con boro, fornisce proprietà elettriche ottimali per una varietà di applicazioni di semiconduttori, garantendo elevate prestazioni e affidabilità.
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Resistenza ottimale:
- La resistività dello strato del dispositivo di 8,5-11,5 ohm-cm è ideale per applicazioni ad alta velocità e a bassa potenza, bilanciando la conducibilità e le caratteristiche di perdita.
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Gestione termica migliorata:
- La struttura SOI consente una migliore dissipazione del calore, che è fondamentale per mantenere le prestazioni e la longevità del dispositivo in condizioni di alta potenza o alta frequenza.
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Stabilità meccanica:
- L'épace maniglia offre un solido supporto meccanico, garantendo la stabilità dell'oplatto durante il processo di fabbricazione e negli ambienti operativi.
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Opzioni di personalizzazione:
- Offriamo la personalizzazione dello spessore dello strato BOX e di altri parametri per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione, fornendo flessibilità per diverse esigenze di semiconduttori.
Applicazioni
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Informatica ad alte prestazioni:
- Ideale per CPU, GPU e altri circuiti logici digitali ad alta velocità, offrendo una velocità migliorata e un consumo energetico ridotto.
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Comunicazione 5G e RF
- Perfetto per componenti RF e elaborazione del segnale ad alta frequenza, beneficiando delle eccellenti proprietà di isolamento e termiche.
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Dispositivi MEMS
- Adatti alla fabbricazione di dispositivi MEMS quali accelerometri, giroscopi e altri sensori, che forniscono la stabilità meccanica e la precisione richieste.
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Potenza elettronica:
- Utilizzato in applicazioni di gestione dell'energia, inclusi interruttori e convertitori di potenza, in cui la gestione termica e l'efficienza sono cruciali.
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circuiti analogici e a segnale misto:
- Migliora le prestazioni dei circuiti analogici riducendo il rumore e il crosstalk, rendendolo adatto per l'elaborazione audio e il condizionamento del segnale.
Qualità e affidabilità
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Norme di produzione:
- I nostri wafer SOI sono fabbricati secondo i più elevati standard del settore, garantendo una qualità e prestazioni costanti.
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Controllo della qualità:
- Sono in atto rigorosi processi di controllo della qualità per garantire che ogni wafer soddisfi le specifiche proprietà elettriche, meccaniche e termiche.
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Certificazioni:
- Risponde agli standard internazionali di fabbricazione dei semiconduttori, garantendo la compatibilità con i processi di fabbricazione globali.
Informazioni sull'ordine
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Disponibilità:
- I wafer SOI da 100 mm e 150 mm sono disponibili per la spedizione immediata.
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Imballaggio:
- I wafer sono confezionati in modo sicuro in contenitori antistatici compatibili con le camere bianche per prevenire la contaminazione e il danno durante il trasporto.
Aggiornate le vostre applicazioni di semiconduttori con i nostri avanzati wafer SOI, progettati per l'eccellenza e l'affidabilità.