• SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm
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SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm

SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm

Dettagli:

Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Numero di modello: Wafer di soia

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 5
Tempi di consegna: 2-4 settimane
Termini di pagamento: T/T
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Diametro: 100 ± 0,2 mm Tipo/dopant: P/B
orientamento: 1-0-0) ± 0,5° Spessore:: 220 ± 10 nm
Resistenza: 80,5-11,5 ohm-cm Finisci.: Frontale lucidato
Ossido termico di soia sepolto:: Spessore: 3 μm±5% Campi di manipolazione:: Contattaci
Evidenziare:

Wafer SOI da 100 mm

,

Wafer SOI da 150 mm

,

Wafer SOI di tipo P

Descrizione di prodotto

SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm Tipo di dopante B Dispositivo: 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm

 

Pagina dettagliata del prodotto per wafer SOI (silicone su isolante)


Visualizzazione del prodotto

Introducendo i nostri wafer SOI ad alte prestazioni, disponibili in 100 e 150 mm di diametro, progettati per applicazioni elettroniche avanzate.offrendo un isolamento elettrico superioreIdeale per il calcolo ad alte prestazioni, la comunicazione RF, i dispositivi MEMS e l'elettronica di potenza.le nostre onde SOI garantiscono prestazioni e affidabilità di prim'ordine.

SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm 0


Specificità

Dimensioni del wafer:

  • Opzioni di diametro: 100 mm (4 pollici) e 150 mm (6 pollici)

Strato di dispositivo:

  • Materiale: silicio
  • Spessore: 220 nanometri
  • Tipo di dopante: tipo P
  • Elemento dopante: Boro (B)
  • Resistenza: da 8,5 a 11,5 ohm-cm

Strato di ossido sepolto:

  • Materiale: Diossido di silicio (SiO2)
  • Spessore: personalizzabile in base alle esigenze dell'applicazione (in genere da 200 nm a 2 μm)

Manico Wafer:

  • Materiale: silicio
  • Tipo: tipo P (dopato con boro)
  • Spessore: spessore standard di 500-700 μm, fornendo un supporto meccanico robusto

 

SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm 1


Caratteristiche chiave

  1. Isolamento elettrico superiore:

    • Lo strato BOX garantisce un eccellente isolamento elettrico tra lo strato del dispositivo e il wafer del manico, riducendo significativamente la capacità parassitaria e il crosstalk.
  2. Strato di dispositivi di alta qualità:

    • Lo strato di dispositivo in silicio di tipo P di spessore 220 nm, dopato con boro, fornisce proprietà elettriche ottimali per una varietà di applicazioni di semiconduttori, garantendo elevate prestazioni e affidabilità.
  3. Resistenza ottimale:

    • La resistività dello strato del dispositivo di 8,5-11,5 ohm-cm è ideale per applicazioni ad alta velocità e a bassa potenza, bilanciando la conducibilità e le caratteristiche di perdita.
  4. Gestione termica migliorata:

    • La struttura SOI consente una migliore dissipazione del calore, che è fondamentale per mantenere le prestazioni e la longevità del dispositivo in condizioni di alta potenza o alta frequenza.
  5. Stabilità meccanica:

    • L'épace maniglia offre un solido supporto meccanico, garantendo la stabilità dell'oplatto durante il processo di fabbricazione e negli ambienti operativi.
  6. Opzioni di personalizzazione:

    • Offriamo la personalizzazione dello spessore dello strato BOX e di altri parametri per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione, fornendo flessibilità per diverse esigenze di semiconduttori.

Applicazioni

  1. Informatica ad alte prestazioni:

    • Ideale per CPU, GPU e altri circuiti logici digitali ad alta velocità, offrendo una velocità migliorata e un consumo energetico ridotto.
  2. Comunicazione 5G e RF

    • Perfetto per componenti RF e elaborazione del segnale ad alta frequenza, beneficiando delle eccellenti proprietà di isolamento e termiche.
  3. Dispositivi MEMS

    • Adatti alla fabbricazione di dispositivi MEMS quali accelerometri, giroscopi e altri sensori, che forniscono la stabilità meccanica e la precisione richieste.
  4. Potenza elettronica:

    • Utilizzato in applicazioni di gestione dell'energia, inclusi interruttori e convertitori di potenza, in cui la gestione termica e l'efficienza sono cruciali.
  5. circuiti analogici e a segnale misto:

    • Migliora le prestazioni dei circuiti analogici riducendo il rumore e il crosstalk, rendendolo adatto per l'elaborazione audio e il condizionamento del segnale.

SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm 2


Qualità e affidabilità

  • Norme di produzione:

    • I nostri wafer SOI sono fabbricati secondo i più elevati standard del settore, garantendo una qualità e prestazioni costanti.
  • Controllo della qualità:

    • Sono in atto rigorosi processi di controllo della qualità per garantire che ogni wafer soddisfi le specifiche proprietà elettriche, meccaniche e termiche.
  • Certificazioni:

    • Risponde agli standard internazionali di fabbricazione dei semiconduttori, garantendo la compatibilità con i processi di fabbricazione globali.

Informazioni sull'ordine

  • Disponibilità:

    • I wafer SOI da 100 mm e 150 mm sono disponibili per la spedizione immediata.
  • Imballaggio:

    • I wafer sono confezionati in modo sicuro in contenitori antistatici compatibili con le camere bianche per prevenire la contaminazione e il danno durante il trasporto.

Aggiornate le vostre applicazioni di semiconduttori con i nostri avanzati wafer SOI, progettati per l'eccellenza e l'affidabilità.

Vuoi conoscere maggiori dettagli su questo prodotto
Sono interessato a SOI Wafer Silicio su isolante 100mm 150mm P tipo Dopante B Dispositivo 220 Resistenza: 8,5-11,5 ohm-cm potresti inviarmi maggiori dettagli come tipo, dimensione, quantità, materiale, ecc.
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