Wafer scure di silicio ultra-puro semiconduttore / di grado elettronico per la microfabbricazione
Dettagli:
Luogo di origine: | Cina |
Marca: | ZMSH |
Numero di modello: | wafer di alta purezza |
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: | 1 |
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Tempi di consegna: | 2-4 settimane |
Termini di pagamento: | T/T |
Informazioni dettagliate |
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Purezza: | 990,9999% (6N) o più | Diametro: | 2 pollici, 3 pollici, 4 pollici, 6 pollici, |
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Spessore: | Spessore standard o personalizzato secondo le esigenze del cliente | Orientamento di cristallo: | <100>, <111>, <110>, ecc. |
Tolleranza di orientamento: | ±0,5° o più | Tolleranza dello spessore: | con una precisione di ± 5 μm o superiore |
Evidenziare: | Microfabbricazione Wafer in carburo di silicio,Wafer scuri di silicio ultra-puro,Wafer scure di silicio di grado semiconduttore |
Descrizione di prodotto
Descrizione del prodotto
Il nostroWafer di silicio di alta purezzail prodotto è fabbricato utilizzando una tecnologia avanzata di crescita dei cristalli Czochralski e processi di taglio e lucidatura di precisione,garantire che il wafer abbia una purezza estremamente elevata e un'eccellente struttura monocristallinaIl contenuto di impurità è estremamente basso, soddisfacendo i severi standard dell'industria dei semiconduttori.altri prodottila wafer è liscia e piatta, con spessore uniforme, garantendo effetti litografici di alta precisione nella produzione di microelettronica.il prodotto presenta un'elevata stabilità termica e resistenza meccanica, mantenendo prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura e pressione, rendendolo adatto alla fabbricazione di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni.
Applicazione
Fabbricazione di circuiti integrati: i wafer di silicio ad alta purezza sono il materiale fondamentale per la produzione di vari circuiti integrati, come microprocessori e dispositivi di memoria.
Cellule solari: utilizzate per produrre celle solari ad alta efficienza, specialmente monocristallinealtri prodotticelle solari.
Fabbricazione di LED: utilizzato nella produzione di diodi emettitori di luce (LED) ad alta luminosità e alta efficienza.
Diodi laser: serve come materiale di substrato per i diodi laser utilizzati nelle applicazioni di comunicazione, medica e industriale.
Semiconduttori di potenza: utilizzati per la fabbricazione di interruttori e raddrizzatori a alta potenza e ad alta frequenza.
Fabbricazione di sensori: utilizzato come substrato per la produzione di sensori di pressione, temperatura, chimici e biologici.
Componenti ottici: utilizzati per produrre vari componenti ottici, come lenti, prismi e finestre.
Caratteristica
Ultra-PuroFabbricazione a partire da fibre sintetiche: sottolineando il livello eccezionalmente basso di impurità.
Di alto livelloFabbricazione a partire da fibre sintetiche: sottolineando la qualità superiore delle wafer.
Premi Fabbricazione a partire da fibre sinteticheSuggerendo un prodotto di alta qualità.
Classificazione dei semiconduttoriFabbricazione a partire da fibre sintetiche: Indicare l'idoneità per le applicazioni dei semiconduttori.
Con un solo cristalloFabbricazione a partire da fibre sintetichedi alta purezza: specifica la struttura cristallina e il livello di purezza.
Wafer Si ad alta purezza: utilizzando il simbolo chimico del silicio.
Classe elettronicaFabbricazione a partire da fibre sintetiche: Suggerimento di idoneità per la fabbricazione di dispositivi elettronici.
Purezza ultra elevataFabbricazione a partire da fibre sinteticheUn altro modo per sottolineare i livelli di impurità estremamente bassi.
di tipo optoelettronicaFabbricazione a partire da fibre sintetiche: Indicare l'idoneità per applicazioni optoelettroniche.
PuroWafer di silicios per la microfabbricazione: sottolineando l'idoneità ai processi di microfabbricazione.
Parametro/caratteristica | Descrizione/specifica |
Tipo di materiale | Silicio monocristallino |
Purezza | 990,9999% (6N) o più |
Diametro | 2 pollici, 3 pollici, 4 pollici, 6 pollici, 8 pollici, 12 pollici, ecc |
Spessore | Spessore standard o personalizzato secondo le esigenze del cliente |
Orientazione cristallina | <100>, <111>, <110>, ecc. |
Tolleranza di orientamento | ±0,5° o più |
Tolleranza dello spessore | con una precisione di ± 5 μm o superiore |
Piatto | ≤ 1 μm o superiore |
Roughness superficiale | < 0,5 nm RMS o inferiore |
I nostri vantaggi
Purezza eccezionale: i nostri wafer di silicio vantano un livello di purezza impressionante del 99,9999% (6N) o superiore, garantendo prestazioni ottimali per le vostre applicazioni.
Fabbricazione di precisione: grazie a un rigoroso controllo della qualità, i nostri wafer hanno uno spessore, un orientamento e una rugosità di superficie precisi, soddisfacendo i più elevati standard del settore.
Applicazioni versatili: ideale per una vasta gamma di applicazioni, dalla produzione di semiconduttori e optoelettronica alle apparecchiature ad alta frequenza e alla lavorazione micro/nano.
Alta conduttività termica: i nostri wafer in silicio presentano un'eccellente conduttività termica, garantendo un'efficiente dissipazione del calore per i vostri dispositivi.
Proprietà fisiche robuste: Con una resistenza alla piegatura e una durata superiori, i nostri wafer forniscono una base affidabile per i vostri componenti.
Opzioni personalizzabili: offriamo opzioni personalizzabili per diametro, spessore e resistività per soddisfare le vostre esigenze specifiche.
Superficie ultra-pulita: i nostri wafer sono sottoposti a meticolosi processi di pulizia, con il risultato di una superficie ultra-pulita con i minimi difetti.
Qualità costante: aderiamo a standard rigorosi per garantire una qualità costante in tutti i nostri prodotti, dandoti tranquillità.
Compliance del settore: i nostri wafer di silicio di alta purezza sono conformi agli standard e alle normative del settore, garantendo la loro idoneità per varie applicazioni.