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Wafer monocristallino di Si per apparecchiature elettroniche Substrato di fotolitografia Strato 2"3"4"6"8"
Dettagli:
| Luogo di origine: | China |
| Marca: | ZMSH |
| Numero di modello: | Si wafer |
Termini di pagamento e spedizione:
| Quantità di ordine minimo: | 10 |
|---|---|
| Tempi di consegna: | 2-4 settimane |
| Termini di pagamento: | T/T |
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Informazioni dettagliate |
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| Superficie anteriore: | CMP lucidato, Ra < 0,5 Nm (unilateralmente lucidato, SSP) | Coefficiente di espansione termica: | 2.6·10-6°C -1 |
|---|---|---|---|
| filo di ordito: | 30 µm | RRV: | 8% (6 mm) |
| Lunghezza piana primaria: | 32.5 +/- 2,5 mm | Lunghezza piana secondaria: | 18.0 +/- 2,0 mm |
| Spessore: | 525 Um +/- 20 Um (SSP) | Tipo/ Dopante: | P/ Boro |
| Evidenziare: | Substrato di semiconduttori a cristallo singolo levigato,Dispositivo elettronico Si Wafer,Wafer a cristallo unico di 2" |
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Descrizione di prodotto
Descrizione del prodotto:
Un wafer di silicio, spesso indicato come wafer di Si, è un componente fondamentale nell'industria dei semiconduttori, svolgendo un ruolo cruciale nella fabbricazione di dispositivi elettronici.un materiale semiconduttore, è utilizzato per la fabbricazione di questi wafer a causa delle sue eccellenti proprietà elettriche.
I wafer di silicio sono substrati sottili a forma di disco, in genere realizzati da un singolo cristallo di silicio.che viene poi tagliato in onde sottili con tecniche di taglio di precisioneI wafer ottenuti vengono lucidati per ottenere una superficie liscia e piana.
Questi wafer servono come base per la creazione di circuiti integrati (IC) e altri dispositivi semiconduttori.Il processo di fabbricazione dei semiconduttori consiste nel depositare vari materiali sul wafer di silicio, creando modelli complessi utilizzando la fotolitografia e incisione per formare transistor, diodi e altri componenti elettronici.
I wafer di Si sono disponibili in diverse dimensioni, con diametri che variano comunemente da 100 a 300 millimetri.Gli wafer più grandi consentono una maggiore efficienza di produzione e costi più bassi per chip.
L'industria dei semiconduttori si basa pesantemente sui wafer di silicio per la produzione di massa di microchip utilizzati in dispositivi elettronici come computer, smartphone e vari altri sistemi elettronici.I continui progressi tecnologici hanno portato allo sviluppo di dispositivi semiconduttori più piccoli e più potenti, che favorisce la domanda di wafer di silicio di alta qualità.
In conclusione, i wafer di silicio sono i mattoni dei moderni dispositivi semiconduttori, facilitando la produzione di circuiti integrati che alimentano i dispositivi elettronici che usiamo quotidianamente.La loro produzione di precisione e il loro ruolo cruciale nell'industria dei semiconduttori li rendono un elemento chiave nel mondo dell'elettronica..
Caratteristiche:
-
Struttura cristallina:Le Wafer Si sono generalmente coltivate da un singolo cristallo di silicio, che presenta una struttura reticolare cristallina ben definita.Questa struttura monocristallina è essenziale per le prestazioni e la stabilità dei dispositivi semiconduttori.
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Purezza:L'elevata purezza è una caratteristica critica dei Wafers di Si, con un rigoroso controllo sulle impurità.
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Conduttività:Il silicio e' un materiale semiconduttore, e la sua conduttività e' influenzata dal doping.la conduttività elettrica del silicio può essere controllata per la fabbricazione di dispositivi elettronici come transistor.
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Dimensioni:Le dimensioni dei Wafer Si sono comunemente descritte in termini di diametro e spessore.mentre le scelte di spessore influenzano i processi di produzione e la progettazione del dispositivo.
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Lussureggianza superficiale:La superficie dei Wafers di Si subisce una lucidatura precisa per garantire piattezza e liscezza, fondamentale per la precisione dei processi di produzione come la fotolitografia.
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Coefficiente di espansione termica:Il coefficiente di espansione termica delle Wafer di Si deve corrispondere ad altri materiali per evitare stress e deformazioni durante i cambiamenti di temperatura, garantendo la stabilità del dispositivo.
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Piattazza:La piattezza delle Wafer di Si è fondamentale per i processi di produzione come la fotolitografia, garantendo la replicazione accurata dei modelli.
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Trasparenza ottica:In alcune applicazioni, le Wafer Si devono mostrare una buona trasparenza ottica per supportare la produzione di dispositivi ottici.
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Stabilità chimica:I Wafer Si dimostrano una relativa stabilità in vari ambienti chimici, rendendoli substrati ideali per una varietà di processi di semiconduttori.
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Processabilità:Le Wafer Si sono facili da elaborare e preparare, rendendole uno dei materiali base più comunemente utilizzati nell'industria dei semiconduttori.
Parametri tecnici:
| Parametri tecnici | Valore |
|---|---|
| Lunghezza piatta secondaria | 18.0 +/- 2,0 mm |
| Materiale del substrato | Wafer di silicio a cristallo singolo |
| Resistenza elettrica | 10-20 Ohm-cm |
| Contenuto di ossigeno | 1.6 x 10^18 Atomi/cm3 |
| Tipo/ Dopante | P/ Boro |
| Spessore | 525 Um +/- 20 Um (SSP) |
| Orientazione primaria piatta | < 110> +/-1° |
| Diametro | 100 mm +/- 0,5 mm |
| Superficie anteriore | CMP lucidato, Ra < 0,5 Nm (unilateralmente lucidato, SSP) |
| Metodo di crescita | MCZ |
| Tecnologia del film sottile | Wafer di ossido di silicio ultra spessa |
| Applicazioni | - |
Applicazioni:
Circuiti integrati (IC): i wafer di Si sono il substrato primario per la produzione di circuiti integrati utilizzati nei dispositivi elettronici.
Transistor: i wafer di silicio sono cruciali per la fabbricazione di transistor, componenti fondamentali dei circuiti elettronici.
Diodi: i wafer di Si servono da base per la produzione di diodi, dispositivi semiconduttori essenziali con varie applicazioni.
Microprocessori: la fabbricazione di microprocessori, il cervello dei computer e dei dispositivi elettronici, si basa fortemente sui wafer di Si.
Dispositivi di memoria: i wafer di Si sono utilizzati per produrre vari tipi di dispositivi di memoria, tra cui RAM e memoria flash.
Cellule solari: i wafer di silicio sono un materiale chiave nella produzione di celle solari, convertendo la luce solare in energia elettrica.
Dispositivi optoelettronici: i wafer di Si svolgono un ruolo nella produzione di dispositivi optoelettronici come i diodi emettitori di luce (LED) e i fotodettori.
Sensori: i wafer di silicio sono utilizzati nella fabbricazione di sensori per applicazioni come pressione, temperatura e rilevamento del movimento.
Dispositivi MEMS: i dispositivi MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), come accelerometri e giroscopi, sono fabbricati su onde di Si.
Dispositivi di potenza: le onde di Si contribuiscono alla produzione di dispositivi semiconduttori di potenza utilizzati in elettronica di potenza e sistemi elettrici.
Dispositivi a radiofrequenza (RF): i wafer di Si sono utilizzati nella creazione di dispositivi a radiofrequenza per la comunicazione wireless e l'elaborazione del segnale.
Microcontrollori: i wafer di Si sono parte integrante della produzione di microcontrollori, presenti in una varietà di sistemi elettronici.
Circuiti analogici: i wafer di silicio sono utilizzati per fabbricare circuiti analogici per l'elaborazione di segnali continui in elettronica.
Componenti in fibra ottica: i wafer di Si svolgono un ruolo nella produzione di componenti per sistemi di comunicazione in fibra ottica.
Sensori biomedici: i wafer al silicio sono utilizzati nella produzione di sensori per applicazioni biomediche, inclusi sensori di glucosio e microarray di DNA.
Smartphone: i Wafer di Si contribuiscono alla produzione di chip semiconduttori utilizzati negli smartphone per varie funzioni.
Elettronica automobilistica: le onde di Si sono utilizzate nella produzione di componenti semiconduttori per l'elettronica automobilistica, comprese le unità di controllo del motore.
Elettronica di consumo: vari dispositivi elettronici di consumo, come televisori, fotocamere e dispositivi audio, incorporano wafer di Si nei loro componenti elettronici.
Dispositivi di comunicazione wireless: i Wafer di Si sono essenziali per la produzione di chip utilizzati nei dispositivi di comunicazione wireless come router e modem.
Processori di segnale digitale (DSP): i wafer di silicio sono utilizzati nella produzione di DSP, microprocessori specializzati per applicazioni di elaborazione del segnale digitale.
Personalizzazione:
Siamo specializzati nella fornitura di servizi di substrato per semiconduttori personalizzati con i seguenti attributi:
- Marchio: ZMSH
- Numero di modello: Wafer in Si
- Luogo di origine: Cina
- Spessore: 525 Um +/- 20 Um (SSP)
- Contenuto di carbonio: 0,5 ppm
- Contenuto di ossigeno: 1,6 X 10^18 Atomi/cm3
- Orientazione del piano secondario: 90° dal piano primario
- Pacchetto: confezionato in ambienti di classe 100 in una stanza pulita, in cassette di 25 wafer.
- Oxidazione superficiale: trattata con uno strato di ossido unico per una migliore conduttività
- Conduttività: materiale altamente conduttivo per applicazioni a semiconduttori
- Materiale semiconduttore: progettato per soddisfare i più elevati standard di qualità, affidabilità e prestazioni
Supporto e servizi:
Supporto tecnico e assistenza ai substrati semiconduttori
In XYZ, forniamo supporto tecnico e servizio per i nostri prodotti a semiconduttori.Il nostro team di esperti è pronto ad assistervi con qualsiasi domanda o preoccupazione che potreste avere riguardo ai nostri prodottiForniamo supporto sia online che telefonico, e siamo disponibili 24 ore al giorno, 7 giorni alla settimana.
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Se mai avete bisogno di un ricambio, offriamo anche una vasta scelta di pezzi di ricambio per tutti i nostri substrati semiconduttori.Siamo orgogliosi di offrire ai nostri clienti parti e servizi di altissima qualità.
Ci sforziamo di fornire il miglior servizio possibile e ci impegniamo a assicurarci che siate completamente soddisfatti del vostro acquisto.Non esitate a contattarci..
La nostra Compagnia
ZMSH è un'impresa ad alta tecnologia specializzata nella ricerca, produzione, lavorazione e vendita di substrati semiconduttori e materiali cristallini ottici.,In particolare, il settore dell'elettronica ottica, dell'elettronica di consumo, dell'industria militare, nonché dei campi del laser e della comunicazione ottica.
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