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November 18, 2025

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#Braccio meccanico Alumina ceramica #Coppe di aspirazione in ceramica di allumina #Al2O3 Alumina ceramica

Breve: Guarda questa panoramica per scoprire perché molti professionisti prestano attenzione al vassoio in carburo di silicio CVD/SSiC ad alta purezza per la lavorazione di wafer a semiconduttore. Scopri la sua eccezionale resistenza meccanica, stabilità termica e precisione dimensionale, progettato per applicazioni industriali esigenti.

Caratteristiche del prodotto correlate:

Progettato con scanalature anulari multi-zona per la riduzione del peso e l'ottimizzazione del flusso termico.
Presenta una rete di nervature radiali rinforzate per una maggiore resistenza meccanica e stabilità rotazionale.
La superficie lavorata con alta precisione garantisce planarità e uniformità dello spessore per applicazioni nel settore dei semiconduttori.
L'interfaccia di montaggio centralizzata consente un'installazione sicura su alberi rotanti e sistemi automatizzati.
Il rinforzo strutturale sull'anello esterno migliora la resistenza alle vibrazioni e la stabilità al carico periferico.
Disponibile in diversi materiali ad alte prestazioni, tra cui SSiC, RBSiC, ceramica di allumina e metalli ad alta resistenza.
Ideale per la produzione di semiconduttori, la produzione di LED, la lavorazione di materiali avanzati e macchinari di precisione.
Offre efficienza termica, durata strutturale, stabilità del processo e personalizzazione per diverse esigenze industriali.

FAQ:

Che cos'è un vassoio in ceramica SiC?

Un vassoio in ceramica SiC è un supporto di precisione realizzato in carburo di silicio ad alta purezza, progettato per sostenere, caricare e trasportare wafer o substrati durante la produzione di semiconduttori, LED, ottica e processi sotto vuoto. Offre un'eccezionale stabilità termica, resistenza meccanica e resistenza alla deformazione in ambienti difficili.
Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di vassoi in SiC rispetto a vassoi in quarzo, grafite o alluminio?

I vassoi in SiC offrono vantaggi prestazionali superiori, tra cui resistenza alle alte temperature fino a 1600-1800°C, eccellente conducibilità termica, eccezionale resistenza meccanica, bassa dilatazione termica, elevata resistenza alla corrosione e maggiore durata in condizioni di produzione continue ad alto stress.
Per quali applicazioni vengono utilizzati principalmente i vassoi in ceramica SiC?

I vassoi in SiC sono ampiamente utilizzati nella movimentazione di wafer a semiconduttore, nei processi termici LPCVD, PECVD, MOCVD, ricottura, diffusione, ossidazione ed epitassia, nel caricamento di wafer di zaffiro/substrati ottici, in ambienti ad alto vuoto e ad alta temperatura e su piattaforme di fissaggio per CMP o lucidatura di precisione.

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