6" silicio ha basato il film dei modelli 500nm AlN di AlN sul substrato di silicio

Informazioni di base
Luogo di origine: La Cina
Marca: ZMKJ
Numero di modello: UTI-AlN-150
Quantità di ordine minimo: 3pcs
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: singolo contenitore del wafer nella stanza di pulizia
Tempi di consegna: in 30days
Termini di pagamento: T/T, Western Union, Paypal
Capacità di alimentazione: 50PCS/Month
Substrato: lastra di silicio Strato: Modello di AlN
Spessore di strato: 200-1000nm Tipo di conducibilità: N/P
Orientamento: 0001 Applicazione: alto potere/apparecchi elettronici ad alta frequenza
Applicazione 2: dispositivi di 5G saw/BAW spessore del silicio: 525um/625um/725um
Evidenziare:

Film di AlN sul substrato di silicio

,

Il silicio ha basato i modelli di AlN

,

6" modelli di AlN

diametro 150mm   a film basato a silicio dei modelli 500nm AlN di 8inch 4inch 6inch AlN sul substrato di silicio

 

Applicazioni di   Modello di AlN
a tecnologia dei semiconduttori basata a silicio ha raggiunto i suoi limiti e non ha potuto rispondere alle esigenze di futuro
apparecchi elettronici. Come genere tipico di materiale a semiconduttore 3rd/4th-generation, il nitruro di alluminio (AlN) ha
le proprietà fisiche e chimiche superiori quale ampio bandgap, l'alta conducibilità termica, alta ripartizione hanno archivato,
l'alta resistenza elettronica di mobilità e di corrosione/radiazione ed è un substrato perfetto per i dispositivi optoelettronici,
apparecchi elettronici dei dispositivi di radiofrequenza (rf), ecc ad alta potenza/ad alta frequenza… Specialmente, il substrato di AlN è
migliore candidato per UV-LED, i rivelatori UV, laser UV, 5G e dispositivi di rf ad alta frequenza/ad alta potenza di 5G SAW/BAW
dispositivi, che potrebbero ampiamente essere utilizzati nella protezione dell'ambiente, elettronica, comunicazioni senza fili, stampa,
campi militari ed altro di biologia, di sanità, quali purificazione/sterilizzazione UV, trattamento UV, fotocatalisi, coun?
rilevazione del terfeit, stoccaggio ad alta densità, comunicazione senza fili e sicura medica di fototerapia, di scoperta della droga,
rilevazione profondo-spazio/aerospaziale ed altri campi.
abbiamo sviluppato pubblicazioni periodiche dei processi e delle tecnologie privati per fabbricare
modelli di alta qualità di AlN. Attualmente, il nostro OEM è la sola società universalmente chi può produrre AlN a 2-6 pollici
modelli nella capacità su grande scala di produzione industriale con una capacità di 300.000 pezzi nel 2020 di incontrare esplosivo
richiesta del mercato dalla comunicazione senza fili UVC-LED, 5G, dai rivelatori UV e dai sensori ecc
 
Il factroy è una società alta tecnologia innovatrice fondata nel 2016 dai professionisti d'oltremare cinesi rinomati da semicon? industria di ductor.
mettono a fuoco la sua attività principale sullo sviluppo e sulla commercializzazione di 3rd/4th-genera? substrati ultra di ampiezza di AlN a semiconduttore del bandgap di tion,
Modelli di AlN, reattori completamente automatici di crescita di PVT e prodotti relativi e servizi per varie industrie alta tecnologie.
è stato riconosciuto come capo globale in questo campo. I nostri prodotti del centro sono materiali chiave di strategia elencati «in fatto in in Cina».
  hanno sviluppato pubblicazioni periodiche delle tecnologie private e reattori e facilità della crescita di -stato-de- art PVT a
fabbrichi le dimensioni differenti dei wafer monocristallini di alta qualità di AlN, temlpates di AlN. Siamo uno dei pochi di livello mondiale
società alta tecnologie che il proprio capa pieno di montaggio di AlN?
i bilities per produrre i boules ed i wafer di alta qualità di AlN e forniscono i profes? servizi di sional e soluzioni chiavi in mano ai nostri clienti,
sistemato dalla progettazione del reattore e di hotzone di crescita, dalla modellistica e dalla simulazione, dalla progettazione trattata e dall'ottimizzazione, crescita dei cristalli,
characteriza wafering e materiale? tion. Fino aprile 2019, hanno applicato più di 27 brevetti (PCT compreso).
 
             Specificazione
 
Specificazione caratteristica
  • Modello                                           UTI-AlN-150S
  • Tipo di conducibilità                       C-aereo del wafer di monocristallo di si
  • Resistività (Ω)                                      >5000
  • Struttura di AlN                                     Solfuro di zinco
  • Diametro (pollice)                                   6inch
  •  
  • Spessore del substrato (µm)                     625 ± 15
  • Spessore di film di AlN (µm)                      500nm
  •  
  • Orientamento                                          C-asse [0001] +/- 0.2°
  • Area utilizzabile                                          ≥95%
  • Crepe                                                  Nessuno
  • FWHM-2θXRD@ (0002)                     ≤0.22°
  • FWHM-HRXRD@ (0002)                    ≤1.5°
  • Rugosità di superficie [5×5µm] (nanometro)       RMS≤6.0
  • TTV (µm)                                             ≤7
  • Arco (µm)                                             ≤40
  • Filo di ordito (µm)                                          -30~30
  • Nota: Questi risultati di caratterizzazione possono variare leggermente secondo le attrezzature e/o il software impiegati
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6" silicio ha basato il film dei modelli 500nm AlN di AlN sul substrato di silicio 26" silicio ha basato il film dei modelli 500nm AlN di AlN sul substrato di silicio 3

Sistema cristallino

Solfuro di zinco

Costante della grata (Å) a=3.112, c=4.982
Conduzione a banda Bandgap diretto
Densità (g/cm3) 3,23
Microdurezza di superficie (prova di Knoop) 800
Punto di fusione (℃) 2750 (barra 10-100 in N2)
Conducibilità termica (W/m·K) 320
Energia di intervallo di banda (eV) 6,28
Mobilità di elettrone (V·s/cm2) 1100
Campo elettrico di ripartizione (MV/cm) 11,7

6" silicio ha basato il film dei modelli 500nm AlN di AlN sul substrato di silicio 4

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