• Wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio del substrato del semiconduttore drogato di si per Microwave/HEMT/PHEMT
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Wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio del substrato del semiconduttore drogato di si per Microwave/HEMT/PHEMT

Wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio del substrato del semiconduttore drogato di si per Microwave/HEMT/PHEMT

Dettagli:

Luogo di origine: La Cina
Marca: zmkj
Numero di modello: 6inch S-C-N

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 5pz
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: il singolo wafer ha imballato in 6" scatola di plastica sotto N2
Tempi di consegna: 2-quattro settimane
Termini di pagamento: T / T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione: 500pcs al mese
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Materiale: Monocristallo di GaAs Dimensioni: 6inch
Spessore: 650um o customzied Di tipo: tacca o del piano
Orientamento: (100) 2°off superficie: DSP
Metodo di crescita: VFG
Evidenziare:

substrato del gasb

,

wafer a semiconduttore

Descrizione di prodotto

il tipo di 2inch/3inch /4inch /6inch S-C-N Si-ha verniciato il wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio 

Descrizione di prodotto

Wafer dell'arsenuro di gallio (GaAs)

PWAM sviluppa e fabbrica il cristallo ed il wafer dell'arseniuro del substrato-gallio a semiconduttore composto. Abbiamo usato la tecnologia avanzata della crescita dei cristalli, la gelata verticale di pendenza (VGF) e tecnologia della trasformazione del wafer di GaAs, abbiamo stabilito una linea di produzione da crescita dei cristalli, taglio, macinazione all'elaborazione di lucidatura ed abbiamo sviluppato una stanza pulita di 100 classi per pulizia e l'imballaggio del wafer. Il nostro wafer di GaAs include il lingotto a 2~6 pollici/wafer per il LED, il LD e le applicazioni della microelettronica. Siamo dedicati sempre per migliorare attualmente la qualità dei sottostati e per sviluppare i grandi substrati.

Wafer dell'arsenuro di gallio (GaAs) per le applicazioni del LED

  • 1. Pricipalmente utilizzato nell'elettronica, la bassa temperatura unisce in lega, arsenuro di gallio.
  • 2. Il composto chimico primario di gallio nell'elettronica, è utilizzato nei circuiti di a microonde, nei circuiti ad alta velocità di commutazione e nei circuiti infrarossi.
  • 3. Il nitruro di gallio ed il nitruro di gallio dell'indio, dato che gli usi a semiconduttore, producono i diodi a emissione luminosa blu e viola (LEDs) ed i laser a diodi.
Wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio del substrato del semiconduttore drogato di si per Microwave/HEMT/PHEMT 0
DESCRIZIONE DI PRODOTTO
SPECIFICAZIONE --Wafer N tipo dell'arsenuro di gallio del Si-dopant a 6 pollici SSP/DSP LED/LD
Metodo di crescita
VGF
Orientamento
<100>
Diametro
150,0 +/- 0,3 millimetri
Spessore
650um +/- 25um
Polacco
Scelga (SSP) lucidato parteggiato
Rugosità di superficie
Lucidato
TTV/Bow
<10um>
Dopant
Si
Tipo di conducibilità
N tipo
Resistività (al RT)
(1.2~9.9) *10-3 ohm cm
Densità del pozzo incissione all'acquaforte (EPD)
LED <5000>2; LD <500>
Mobilità
Cm2/v.s del LED >1000; Cm2/v.s di LD >1500
Concentrazione in trasportatore
LED > (0.4-4) *1018 /cm 3; LD > (0.4-2.5) *1018 /cm3

Specifiche del wafer semiconduttore di GaAs

     

 Metodo di crescita

VGF

Dopant

p tipo: Zn

n tipo: Si

Forma del wafer

Rotondo (diametro: 2", 3", 4", 6")

Orientamento di superficie *

(100) ±0.5°

* altri orientamenti forse disponibili su richiesta

Dopant

Si (n tipo)

Zn (p tipo)

Concentrazione in trasportatore (cm-3)

(0.8-4) × 1018

(0.5-5) × 1019

Mobilità (cm2/V.S.)

× 103 (di 1-2.5)

50-120

Densità del passo incissione all'acquaforte (cm2)

100-5000

3,000-5,000

Diametro del wafer (millimetro)

50.8±0.3

76.2±0.3

100±0.3

Spessore (µm)

350±25

625±25

625±25

TTV [P/P] (µm)

≤ 4

≤ 4

≤ 4

TTV [P/E] (µm)

≤ 10

≤ 10

≤ 10

FILO DI ORDITO (µm)

≤ 10

≤ 10

≤ 10

DI (millimetro)

17±1

22±1

32.5±1

DI/SE (millimetro)

7±1

12±1

18±1

Polish*

E/E,

P/E,

P/P

E/E,

P/E,

P/P

E/E,

P/E,

P/P

Specifiche di semi-isolamento del wafer di GaAs

Metodo di crescita

VGF

Dopant

Tipo di SI: Carbonio

Forma del wafer

Rotondo (diametro: 2", 3", 4", 6")

Orientamento di superficie *

(100) ±0.5°

* altri orientamenti forse disponibili su richiesta

Resistività (Ω.cm)

× 107 del ≥ 1

× 108 del ≥ 1

Mobilità (cm2/V.S)

≥ 5.000

≥ 4.000

Densità del passo incissione all'acquaforte (cm2)

1,500-5,000

1,500-5,000

Diametro del wafer (millimetro)

50.8±0.3

76.2±0.3

100±0.3

150±0.3

Spessore (µm)

350±25

625±25

625±25

675±25

TTV [P/P] (µm)

≤ 4

≤ 4

≤ 4

≤ 4

TTV [P/E] (µm)

≤ 10

≤ 10

≤ 10

≤ 10

FILO DI ORDITO (µm)

≤ 10

≤ 10

≤ 10

≤ 15

DI (millimetro)

17±1

22±1

32.5±1

TACCA

DI/SE (millimetro)

7±1

12±1

18±1

N/A

Polish*

E/E,

P/E,

P/P

E/E,

P/E,

P/P

E/E,

P/E,

P/P

E/E,

P/E,

P/P

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FAQ –
Q: Che cosa potete assicurare la logistica ed il costo?
(1) accettiamo DHL, Fedex, TNT, UPS, lo SME, SF ed ecc.
(2) se avete vostro proprio numero preciso, è grande.
Se non, potremmo assistervi per consegnare. Freight=USD25.0 (il primo peso) + USD12.0/kg

Q: Che cosa è il termine di consegna?
(1) per i prodotti standard quali la lente della palla, la lente di powell e la lente del collimatore:
Per l'inventario: la consegna è 5 giorni feriali dopo ordine.
Per i prodotti su misura: la consegna è 2 o 3 settimane lavorative dopo ordine.
(2) per i prodotti fuori standard, la consegna è 2 o 6 settimane lavorative dopo che ordinate.

Q: Come pagare?
T/T, Paypal, unione ad ovest, MoneyGram, assicurazione sicura di commercio e di pagamento su Alibaba ed ecc…

Q: Che cosa è il MOQ?
(1) per l'inventario, il MOQ è 5pcs.
(2) per i prodotti su misura, il MOQ è 5pcs-20pcs.
Dipende dalla quantità e dalle tecniche

Q: Avete rapporto d'ispezione per materiale?
Possiamo fornire il rapporto di dettaglio per i nostri prodotti.

 

Imballaggio – Logistcs
interessiamo ciascuno dettagli del pacchetto, pulizia, antistatica, trattamento d'urto. Secondo la quantità e la forma del prodotto,

prenderemo un processo d'imballaggio differente!

Vuoi conoscere maggiori dettagli su questo prodotto
Sono interessato a Wafer di GaAs dell'arsenuro di gallio del substrato del semiconduttore drogato di si per Microwave/HEMT/PHEMT potresti inviarmi maggiori dettagli come tipo, dimensione, quantità, materiale, ecc.
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